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2024年5月29日 · 為何半導體大廠都在搶High-NA EUV機台？要回答這個問題，就得從解析「EUV」開始！ 事實上，EUV為「極紫外光」縮寫（Extreme ultraviolet, EUV），它是一道波長小於13.5奈米的光，而使用EUV作為光源的曝光機，就是所謂的EUV曝光機/光刻機。
極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術，目前用於7奈米以下的先進製程，於2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
2020年4月22日 · 什麼是極紫外光（EUV）微影技術？關心台積電為何能連續多年業績創高，此關鍵技術絕對不能忽視，半導體設備巨頭ASML用視覺影像讓你知道EUV怎麼運作的。
2021年2月15日 · 作者 TN Choice | 發布日期 2021 年 02 月 15 日 0:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 零組件. | edit. 分享. 2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議（IEDM）上，台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。. 第一個報告宣布了應用 EUV 微影 ...
极紫外光刻（英语：extreme ultraviolet lithography，台湾称为极紫外光微影，简称“EUV”或“EUVL”）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光波長的光刻技術，目前用于7納米以下的先進製程，于2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
Extreme ultraviolet lithography (EUVL, also known simply as EUV) is a new technology used in the semiconductor industry for manufacturing integrated circuits (ICs). It is a type of photolithography that uses extreme ultraviolet (EUV) light to create intricate.
2 天前 · 作為製造最先進晶片所必需的極紫外（EUV）曝光系統的全球唯一供應商，ASML 揭示了其進一步推動半導體規模化的路線圖。 在最近的一次演講中，ASML 前總裁 Martin van den Brink 宣佈了公司的新"Hyper-NA"EUV 技術計畫，該技術將接替剛剛開始部署的 High-NA EUV 系統。
2023年10月28日 · 要轉變製程方式還要購買EUV曝光機太花錢，加上資源分配不均等問題，最終Intel錯過了EUV曝光機，也錯過了iPhone訂單。 結語 ASML是荷蘭公司，目前也只有他們能夠掌握EUV曝光機，但他們的護城河是用「數十年的時間」+「全球化供應鏈管理」+「數百億美金 ...
6 天前 · Today’s EUV systems are made by a single manufacturer, ASML, headquartered in Veldhoven, Netherlands. When ASML introduced the first generation of these US $100-million-plus precision machines ...
3 天前 · 近年來，荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產的 EUV 曝光機成為了先進半導體生產供應鏈的關鍵一環。目前 ASML 有秩序的執行其發展藍圖，首個階段是在標準 EUV之後，就將迎接 High-NA EUV 設備。對此，在 2023 年末，ASML 就已向英特爾交貨了業界首套 High-NA ...
