無塵室管理規範 pdf 相關
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以下簡單介紹其處理流程：外氣經由外氣空調箱（Make-up Air Unit或MAU）初步過濾微塵（particle）並控制其溫溼度後，經由回風管道間（Mech. Chase），將無塵室之循環風量與外氣空調箱之補充風量混合，經由冷卻盤管（Dry Cooling Coil）將回風管道間之
無塵室 ，又稱 淨室 、 潔淨室 或 清淨室 ，是指一個具有低污染水平的環境，這裡所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發性氣體。. 更準確地講，一個淨室具有一個受控的污染級別，污染級別可用每立方米的顆粒數，或者用最大顆粒 ...
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淨室設計 （英語： Clean room design ），也稱 中國牆 技術 （ Chinese wall technique ），是一種以 逆向工程 然後重新創作以複製某項設計，但不會侵犯與原始設計相關的任何 版權 方法。 淨室設計有助於防止侵犯版權，因為它立足於獨立的發明創造。 但是，因為獨立的發明創造不是對抗 專利 的有效辯護，淨室設計通常不能用於規避專利限制。 該術語意指設計團隊在未使用競爭對手任何專有技術知識的「乾淨」或明顯不受污染的環境中工作。 通常來說，淨室設計會先讓某人檢查系統如何重新實現，並撰寫一份規範。 然後 律師 審查這份規範，確保其不包含受到版權保護的資料。 最後由與原檢查員無關的團隊實現該規範。 例子 [ 編輯]
净室系統 [ 编辑] 净室系統，製造符合規格之潔淨空氣，連續且穩定供給足夠之潔淨空氣於使用端，無塵室內的製造區（FAB）。. 一般而言，製造潔淨空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經過净室系統各種處理單元設備之處理後進而得到符合規格之潔淨空氣。. 以下 ...
恆溫恆濕控制. 由於半導體製程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在無塵室大部分區域必須控制在± 1°C及± 3%之內。 所需的外氣較多. 由於半導體工廠中，製程系統需使用大量的化學品和毒氣，這些化學品和毒氣所產生的揮發氣體和廢氣必須予以全數排除，故排氣量相當大，為維持無塵室壓力比外面的大氣壓力大，此時所補充的空氣量亦隨之增加。 空調系統24小時全天運轉並監控管理. 半導體工廠部分製程裝置，對溫濕度變化極為敏感，如黃光區Stepper光學機台，些微的溫、濕度變化均會使裝置的準度偏差，另外晶片等產品也必須置放在定溫定濕的環境下，故空調系統必須24小時監控管理之。 半導體廠無塵室室內壓力大小.
淨室設計 （英語： Clean room design ），也稱 中國牆 技術 （ Chinese wall technique ），是一種以 逆向工程 然後重新創作以複製某項設計，但不會侵犯與原始設計相關的任何 著作權 方法。 淨室設計有助於防止侵犯著作權，因為它立足於獨立的發明創造。 但是，因為獨立的發明創造不是對抗 專利 的有效辯護，淨室設計通常不能用於規避專利限制。 該術語意指設計團隊在未使用競爭對手任何專有技術知識的「乾淨」或明顯不受污染的環境中工作。 通常來說，淨室設計會先讓某人檢查系統如何重新實現，並撰寫一份規範。 然後 律師 審查這份規範，確保其不包含受到著作權保護的資料。 最後由與原檢查員無關的團隊實現該規範。 例子 [ 編輯]
臺灣正體. 工具. 無塵室中一組商用反應離子蝕刻設備. 反應離子蝕刻（英文：Reactive-Ion Etching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工工藝，它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料，來達到 刻蝕 的目的。 氣體在低 壓 （ 真空 )環境下由 電磁場 產生，電漿體中的高能 離子 轟擊晶片表面並與之反應。 設備 [ 編輯] RIE系統的典型的設備（平行板式）一般包括一個圓柱形真空室，真空室底部放置用來放晶片盤子。 盤子與室體的其他部分絕緣。 氣體由小口注入真空室上部，由底部排出進入真空泵。 氣體的種類和多少取決於蝕刻的程序。 比如， 六氟化硫 經常用來蝕刻 矽 。
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