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三星、台積電、英特爾等都在爭先恐後地將EUV投入芯片量產，中芯國際斥資1.2億美元買入EUV光刻機成了大新聞，日本對韓國的半導體禁令中，EUV光刻膠更是被關注的焦點……
2018年3月1日 · 比如，GlobalFoundries研究副總裁George Gomba就表示，唯一有能力做250瓦EUV光刻機的ASML（阿斯麥）提供的現款產品NXE-3400仍不能滿足標準，他們建議供應商好好檢查EUV光罩系統，以及改進光刻膠。 這裡對光刻做一下簡單科普。
2019年7月4日 · 摘要：日前據韓媒報導稱，ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機，與現有的光刻機相比，二代EUV光刻機最大的變化就是High NA（高數值孔徑）透鏡，通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%，達到業界對幾何式 ...
光刻機銷量方面，淨訂單額高達47.4億歐元，其中EUV光刻機就佔到了22.9億歐元。具體來說，Q1季度中交付並產生收入的EUV光刻機有7台，比去年Q4季度的8台少了1台。
2019年10月22日 · 據了解，由於EUV極短波長 13.5納米具有強力光線的技術，能夠更完美地解析先進製程的設計，減少芯片生產步驟及光罩層數，高速高頻，對芯片微縮、低功耗要求高，成為延續摩爾定律重要技術。
2019年7月9日 · 三星5LPE工藝仍然使用傳統FinFET立體晶體管，但加入了新的標準單元架構，並同時使用DUV、EUV光刻技步進掃描系統。 由於繼承了舊工藝的部分指標，使用三星5LPE工藝設計芯片的時候，可以重複使用7LPP IP，同時享受新工藝的提升。
2020年5月8日 · 或者說，EUV光刻機的研發難度會超過原子彈？ 01、近40個國家加入EUV光刻技術研發戰團 EUV光刻技術的研發始於20多年前，前後有近40個國家加入戰團，歐美發達國家幾乎悉數入局。 行動最早的是美國。 早在1996年以前，美國即開始電子束和軟X射線光刻
