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  1. 2019年7月4日 · 公開日: 2019-07-04. 摘要:日前據韓媒報導稱,ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有的光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA(高數值孔徑)透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到 ...

  2. 2018年12月19日 · 全球一號代工廠台積電宣布了有關極紫外光刻(EUV)技術的兩項重磅突破,一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作,二是5nm工藝將在2019年4月開始試產。今年4月開始,台積電第一代7nm

  3. 2020年3月13日 · 此前傳言,中芯國際從荷蘭ASML購買了一台價值1.5億美元的EUV光刻機(極紫外光刻機),但受美國影響,ASML一直拿不到相關許可證無法發貨。 3月初,中芯國際的新光刻機入廠區,但是並非傳聞中的EUV光刻機,而是價格更便宜的DUV光刻機(深紫外光刻機)。

  4. 2019年7月1日 · 8月22日,多名業內人士接受韓聯社電話採訪時表示,21日有一批日本EUV抗蝕劑被空運至韓國。這是日本上月4日對韓采取限貿措施的49天裡首批運抵韓國的日產EUV抗蝕劑。據日本廣播協會(NHK)和共同社的

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