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  1. 2022年9月12日 · 根據經發局資料,家登是全台唯一獲選國際18吋半導體設備、國際標準規格制訂廠商;同時也是全球半導體曝光機龍頭廠艾司摩爾(ASML)的EUV光罩盒 ...

  2. 2021年1月27日 · 由於EUV光罩屬高單價產品,且無法貼上傳統的保護膜(Pellicle)來防止微粒的污染,因此一定要透過特殊設計的光罩盒保護。EUVL光罩載具包含內盒和外盒,內盒可以代替光罩保護膜,防止微粒污染。

  3. 2023年3月8日 · 家登是全球極紫外光光罩盒(EUV Pod)的最大供應商,包括擁有全球最多EUV機台的台積電及英特爾(Intel)、三星(Samsung)等都是客戶,「我們全球市佔率逾八成,在台灣更是唯一的供應商,市占近百分之百。 」邱銘乾自豪地向本刊分享家登在半導體的地位。 然而,家登現在看來成績雖亮眼,但一路走來並非順遂。...

  4. 2021年2月21日 · 在台積電、三星、英特爾在角逐先進製程過程中,因極紫外光微影(EUV)技術能打破前一代微影技術的尺寸限制,此技術因而嶄露頭角,也讓光罩傳載盒(EUV Pod)成為當紅炸子雞,本土的家登和美商英特格(Entegris)是兩大主力供應商。

  5. 應用於半導體黃光製程自動化光清洗設備,可清洗光罩的Glass Side、Pellicle Side與barcode (edge)兩側區域,可有效清潔光罩上的particle與Glass side HAZE汙染,快速讓光罩恢復生產。

  6. 極紫外光微影 (英語:extreme ultraviolet lithography,中國大陸稱為 極紫外光刻 ,簡稱「EUV」或「EUVL」)又稱作 超紫外線平版印刷術, 是一種使用 極紫外光 波長的 微影 技術,目前用於7 奈米 以下的先進製程,於2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。 DUV微影製程 [ 編輯] 晶圓製造過程裡有一道程序是將設計好的電路圖案 (Pattern)縮小轉印到晶圓上,此道製程便稱之為 微影, 7奈米以前的製程使用248或193奈米波長的光做為光源來進行微影。

  7. 2022年9月12日 · 家登董事長邱銘乾(中)今信心十足且霸氣宣示「EUV光罩盒我說了算」,台灣廠商機會已來到,因產能吃緊,預期家登下半年營運表現將會比上半年好,明年還會比今年更好。. (記者洪友芳攝). 〔記者洪友芳/新竹報導〕半導體市況雖降溫,先進製程 ...

  8. 2021年12月30日 · 家登通過ASML認證的EUV光罩盒,提供6吋EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效能防護,內層EIP可. 圖/ 家登精密. 另一方面,邱銘乾指出,接下來3奈米將成為先進製程的主力節點,對於EUV光罩盒的需求只會有增無減,將為家登精密帶來更高的成長動能;舉例來說,家登精密子公司家登自動化就順勢在今年取得5~6億元的成績,預期明年將有30~40%的成長。 說起家登精密是一家非常有趣的公司,過去曾與另一家供應EUV光罩業者英特格進行專利訴訟之戰,當時在英特格的窮追猛打下,曾一度無法存活,所幸在各界幫忙與台積電以抵押廠房、專利等不同形式的資金協助,轉而其死回生。

  9. www.gudeng.com › Product › ProductViewEUV POD - Gudeng

    EUV POD(通過ASML認證) 以子母盒雙層設計,提供6吋EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效能防護,內層EIP可於真空環境下操作。 支援充氣功能可對光罩傳送盒內部做微環境的溫溼度控制。

  10. 英特格 極紫外光EUV光罩傳送盒. 英特格 (Entegris)的雙吊艙設計提供了內部和外部吊艙,可維持無污染的環境,應用於極紫外光 (EUV)微影技術的晶片大量生產,以保護製造過程中光罩的完整。. 1008 Series EUV Pods. Extreme ultraviolet light (EUV) reticle pod is designed to provide ...

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