無塵室天花板 相關
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無塵室 ，又稱 淨室 、 潔淨室 或 清淨室 ，是指一個具有低污染水準的環境，這裡所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發性氣體。 更準確地講，一個無塵室具有一個受控的污染級別，污染級別可用每立方米的顆粒數，或者用最大顆粒大小來厘定的。 低階別的無塵室通常是沒有經過消毒的（如沒有受控的微生物），更在意的是無塵室中的灰塵。 淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。
於 微電子 生產用無塵室之天花板骨架安裝風機過濾機組. 風機過濾機組 (英文: Fan Filter Unit ，簡稱: FFU )，是一種結合送風機與高效濾網 ( HEPA /ULPA)氣流循環與過濾之 無塵室 潔淨設備，主要是用來過濾來自作業場所空氣中所存在有害空氣中的粉塵顆粒，提供潔淨之空氣。 FFU的無塵室大致可分 層流 型 (laminar)與 紊流 型 (turbulent)無塵室兩大類 [1] ，層流型都在Class 1000以下，而紊流型無塵室則是在Class 1000以上；主要安裝於無塵室天花板上及機台上方 [2] ，或網格地板內安裝此設備，提供無塵室與機台所需之氣流循環與空氣濾淨；在 台灣 ，使用此設備大致採送風式居多。
淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。 無塵室被廣泛地應用在對環境污染特別敏感的行業，例如 半導體生產 、 生化技術 、 生物技術 、 精密機械 、 製藥 、和 醫院 內的 手術室 等行業等，其中以 半導體 業其對室內之溫濕度、潔淨度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求範圍內，才不會對製程產生影響。 作為生產設施，無塵室可以佔據廠房很多位置。 無塵室系統 [ 編輯] 無塵室系統，製造符合規格之潔淨空氣，連續且穩定供給足夠之潔淨空氣於使用端，無塵室內的製造區（FAB）。 一般而言，製造潔淨空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經過無塵室系統各種處理單元裝置之處理後進而得到符合規格之潔淨空氣。
高效濾網 （英語： High-Efficiency Particulate Air ，即 高效率空氣微粒子過濾網 ，簡稱 HEPA [1] [2] ）是一種用於 空氣淨化 的器材。 HEPA高效濾網除了攔截大顆粒懸浮物、黴菌孢子、煙霧等...難聞氣味外，亦可遠離過敏源、細菌；可廣泛用於醫療院所、藥廠、航空業、食品業、研究單位、電子廠、無塵室。 [3] 濾網的標準由美國能源部設定，對粒徑在0.3μm的粒子， 過濾效果約為DOP 99.97%以上。 通常使用的高效濾網可達到99.99%的攔截效率，也有更高或相對低一些的品項，各國有相應的規格標準。
淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。 净室被廣泛地應用在對環境污染特別敏感的行業，例如 半導體生產 、 生化技術 、 生物技術 、 精密機械 、 製藥 、和 醫院 内的 手術室 等行業等，其中以 半導體 業其對室內之溫濕度、潔淨度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求範圍內，才不會對製程產生影響。 作為生產設施，净室可以佔據廠房很多位置。 净室系統 [ 编辑] 净室系統，製造符合規格之潔淨空氣，連續且穩定供給足夠之潔淨空氣於使用端，無塵室內的製造區（FAB）。 一般而言，製造潔淨空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經過净室系統各種處理單元設備之處理後進而得到符合規格之潔淨空氣。
淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。 淨室被廣泛地應用在對環境污染特別敏感的行業，例如 半導體生產 、 生化技術 、 生物技術 、 精密機械 、 製藥 、和 醫院 內的 手術室 等行業等，其中以 半導體 業其對室內之溫濕度、潔淨度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求範圍內，才不會對製程產生影響。 作為生產設施，淨室可以佔據廠房很多位置。 淨室系統 [ 編輯] 淨室系統，製造符合規格之潔淨空氣，連續且穩定供給足夠之潔淨空氣於使用端，無塵室內的製造區（FAB）。 一般而言，製造潔淨空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經過淨室系統各種處理單元設備之處理後進而得到符合規格之潔淨空氣。
無塵室中一組商用反應離子蝕刻設備. 反應離子蝕刻（英文：Reactive-Ion Etching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工工藝，它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料，來達到 刻蝕 的目的。 氣體在低 壓 （ 真空 )環境下由 電磁場 產生，電漿體中的高能 離子 轟擊晶片表面並與之反應。 設備 [ 編輯] RIE系統的典型的設備（平行板式）一般包括一個圓柱形真空室，真空室底部放置用來放晶片盤子。 盤子與室體的其他部分絕緣。 氣體由小口注入真空室上部，由底部排出進入真空泵。 氣體的種類和多少取決於蝕刻的程序。 比如， 六氟化硫 經常用來蝕刻 矽 。
