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吳孟峰/核稿編輯 〔財經頻道/綜合報導〕製造先進晶片需採用荷蘭ASML製造商生產的價格高昂極紫外光曝光機(EUV),而現在日本科學家開發出簡化的EUV掃描儀,據稱可以大幅降低晶片的生產成本。
自由時報電子報
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中時電子報
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工商時報
ASML EUV太高貴!台積電有新選擇 半導體業迎來巨變?
鉅亨網
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T客邦
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yam蕃薯藤新聞
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