搜尋結果
- 極紫外線(EUV)光技術是半導體行業變革的關鍵驅動力。 光刻術是將複雜圖案印刷到半導體材料上的方法，自半導體時代開始以來，通過使用越來越短的波長進行了發展。 EUV光刻術是迄今為止波長最短的。 經過數十年的發展，首批用於生產的EUV光刻機是來自ASML，這是一家荷蘭半導體公司。 EUV光刻術是什麼？ EUV光指的是用於微晶片光刻的極紫外線光，該過程涉及將微晶片晶片塗覆上感光材料，並小心地將其暴露於光下。 這在晶片上印刷出一個圖案，用於微晶片設計過程中的進一步步驟。 計算機的歷史是半導體行業的歷史，反過來又是不斷追求微 ...
wish.with.tw/blogs/with-note/what-is-euv-and-how-does-it-work
其他人也問了
EUV 技術有哪些困難點需要突破?
EUV 微影量產技術為何成功?
什麼是EUv光罩?
台積電為何開發用於量產的EUV微影技術?
2020年4月22日 · 什麼是極紫外光（EUV）微影技術？關心台積電為何能連續多年業績創高，此關鍵技術絕對不能忽視，半導體設備巨頭ASML用視覺影像讓你知道EUV怎麼運作的。
極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術，目前用於7奈米以下的先進製程，於2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
- 看！就是那道光
- 原來都是「繞射」惹的禍
- 困難重重、機會無窮
EUV，全名為Extreme Ultraviolet，中文叫做「極紫外光」，是一種波長極短的紫外光，一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米，而極紫外光才13.5 奈米而已，可說是頻率更高、能量更強的光，不過因為這個波段的光很容易被空氣等介質吸收，反而不如紫外光對人體有那麼多影響哦！ 在上一篇《打造IC裡的樂高世界 — 微影製程》裡我們提到微影製程(Lithography) 就是用光在晶圓上面刻出我們想要的圖案，而因為電晶體的尺寸不斷在微縮，到了近幾年10奈米以下的製程，就需要使用EUV來當作光的來源。但是，為什麼要是EUV？為什麼不能用其他的可見光？那蠟筆小新的動感光波可以嗎？
是的以上那些光都不行，只有波長夠短的EUV才行，但這是為什麼呢？這就要聊聊光的基本特性-繞射。繞射是指「當波在行進過程中遇到障礙物或是孔洞時，不再直線前進，而是像漣漪擴散到四周的現象」，例如平常你站在街角還是可以聽到另外一頭人講話的聲音，就是因為原本只會直線前進的聲波，遇到轉角或縫隙後產生繞射，讓聲波「轉彎」了，才能進入你的耳朵讓你聽見。 光本身也是一種波，那為什麼日常生活中我們幾乎沒看過轉彎的光呢？那是因為光的波長相對於聲波來說是非常小的，聲波的波長約在幾十公分左右，但可見光的波長只有300到800 奈米，因此原本那些孔洞都顯得不那麼小了，而是像康莊大道一樣，讓光可以直接穿透過去。若要說哪裡觀察得到光的繞射，大概就是以前國高中物理課的「單狹縫實驗」和「雙狹縫實驗」，讓光穿過很小的縫隙，進而...
顯而易見的，EUV 已成為未來10奈米以下先進製程的解答之一，然而，EUV 技術仍有許多困難點需要突破，除了EUV 容易被空氣吸收因此機器必須維持在高真空狀態外，由於EUV需要透過多個反射鏡來收集和提高功率，反射鏡必須非常光滑，否則會讓好不容易產生的EUV又消散掉。此外，進行多次反射也非常耗能，能源轉換效率只有2%不到，這又讓剛加入全球再生能源倡議組織（RE100）的台積電面臨更嚴峻的考驗，因此，全世界都在看台積電如何完善 EUV 技術，引領全球半導體業持續維持摩爾定律的神話。
2024年5月29日 · 為何半導體大廠都在搶High-NA EUV機台？要回答這個問題，就得從解析「EUV」開始！ 事實上，EUV為「極紫外光」縮寫（Extreme ultraviolet, EUV），它是一道波長小於13.5奈米的光，而使用EUV作為光源的曝光機，就是所謂的EUV曝光機/光刻機。
2021年2月15日 · EUV 微影技術採用錫的電漿來產生波長為 13.5 奈米的光源，以及用鉬矽多層反射薄膜來把光傳遞到晶片上。 不同於一般的紫外光微影技術，EUV 微影技術得在低真空中運作，技術難度更高。 EUV 微影技術以實驗室形式的研發（日本，美國，歐洲，包括 ASML 和 Cymer）已經走過了二十多年卻仍達不到量產的技術要求，但也沒有被放棄。 理由只有一個：因為沒有 showstopper（明顯的重大問題）。 當時業界普遍認為如果 EUV 能用於量產就可以讓摩爾定律延續生命。 這是個巨大的誘惑。 台積電是全球最大的半導體代工廠，在先進製程獨占鰲頭，其開發所有新技術的目的只有一個：最終用於量產。 而開發用於量產的 EUV 微影技術就落到了我的肩上。
極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光，lithography最早是石版印刷的意思，現在也被用來稱呼為光刻技術，所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行雕刻”的意思，那要雕什麼呢？
极紫外光刻（英语：extreme ultraviolet lithography，台湾称为极紫外光微影，简称“EUV”或“EUVL”）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光波長的光刻技術，目前用于7納米以下的先進製程，于2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
