離子橫截面拋光機 相關
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離子拋光機專門為易受機械應力破壞材料所設計，如：PCB板、金屬、封裝晶片、高分子等，各種材料. EBSD 試樣前處理. 超薄鍍層 (1um以下) 電子材料中較脆弱之金屬層. 材料結構之細微缺陷、孔隙. 因應試樣需求可採用 Cross Section polish or Flat polish 來製備試樣，搭配上方 M80 立體顯微鏡 (~230x) 達到精確對位且能即時觀察。 特色: 三支 ion guns 一次製備大範圍. Cross Section polish 面積達 4x1 mm. Flat polish 面積達 dia.25mm. 大尺寸試樣，輕鬆製備. Cross Section Polish 試樣體積：50x50x10 mm.
- dia.38x12 (H)mm
- 0-30∘
- dia.25mm
- ±20°, ±45°, ±90°, ±180°, ±360°
share： 截面拋光機. Ion Beam Polisher 型號：CP-8000+. CP-8000+ 是一種先進的樣品製備工具，可利用氬離子束蝕刻樣品的橫截面。 此過程可避免物理變形和結構損壞，而無需複雜的化學過程。 此外，該系統還能處理從幾十㎛到幾mm㎛的大面積樣品，從而簡化了樣品的橫斷面分析。 加入洽詢. 產品特點 產品規格 Features Specifications. CP-8000+ 是一種先進的樣品製備工具，可利用氬離子束蝕刻樣品的橫截面。 此過程可避免物理變形和結構損壞，而無需複雜的化學過程。 此外，該系統還能處理從幾十㎛到幾mm的大面積樣品，從而簡化了樣品的橫斷面分析。 應用. CP-8000+ 是一種先進的樣品製備工具，可利用氬離子束蝕刻樣品的橫截面。
橫截面拋光和平面拋光兩機一體. 超寬加速電壓範圍（最高10keV）拋光效率高. 最低100eV，修復後近乎無損. 單鍵全自動化操作，操作參數可儲存. 配備液氮冷台（可持續製冷超過18小時）去除熱損傷. 操作簡易，維護方便. 給予最優質的服務及產品，為您提供應用領域的解決方案。 立即與我們聯絡. ION Milling,離子束,SEM Mill 氬離子束樣品裝備系統，可獨立分別調整能量和拋光角度的雙離子槍橫截面拋光和平面拋光兩機一體氬離子槍能量範圍從100eV到10kV單鍵全自動化操作。
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2021年3月17日 · 本次新推出Model 1062Trion Mill三離子槍拋光機， 可用於創建SEM成像和分析所需的樣品表面特性。 TrionMill的三個離子源可對平面和橫截面樣品進行大規模研磨。 高能量運行可實施大面積（最大50毫米）的快速減薄；低能量操作可將樣品拋光。 快速移動樣品. 帶有真空閘閥的前裝式負載鎖 (Load lock)可實現快速更換樣品。 卡榫樣品架的快速釋放功能可加快樣品傳輸速度。 如不使用時，樣品傳輸桿可以折疊。 精確的角度調整. 離子源傾斜以提供所需的減薄角度。 可連續調整離子源傾斜角度範圍為0至+ 10°。 您可以選擇使用一個，兩個或三個TrueFocus離子源。 每個離子源束角一致移動。
聯絡窗口 | 林先生/Afu | 電話：+886-3-57999096631 | email: web_pfa@istgroup.com. 離子束剖面研磨 (Cross section polisher, CP)，利用離子束切割方式，切削出樣品剖面，不同於一般的剖面研磨，離子束切割，可避免因研磨過程所產生的應力影響。. 宜特可協助以CP進行約1mm大範圍 ...
簡介： ・離子拋光可獲得無應力破壞的表面. ・具備三支可調能量及角度氬離子槍. ・可作平面研磨橫截面切削. ・離子聚焦位置可任意調整. 詳細資訊. Fischione Instruments 提供兩種用於掃描電子顯微鏡 (SEM) 樣品製備的台式離子研磨機：1061 型 SEM 研磨機和 1062 型 TrionMill。 比較規格以確定哪種 SEM 樣品製備解決方案適合您的應用。 三朋儀器1945年創立，秉持誠信、負責、和諧企業精神，營業項目包含材料試驗、精密量測、金相設備、環境試驗、光電半導體研發、檢測設備.
產品介紹. Leica 離子束剖面研磨 (CP) EM TIC 3X 三離子剖面拋光機. 更多. EM TXP 定點切片機. 更多. EM ACE 200 真空濺鍍機. 更多. « 1. » 汎達代理德國知名大廠Leica，為科技廠、精密產業提供優質離子研磨機（Ion Milling System），適用於各種須避免受應力破壞的材料，汎達代理離子研磨機（Ion Milling System）是您的好選擇。
