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1. www.samco.co.jp › tw莎姆克股份有限公司 - Samco

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   IIT Delhi selects Samco Multi-Chamber CVD system for developing Heterojunction with Intrinsic Thin-layer Solar Cell 27 January 2021 新聞中心 Total Equipment Sales Reaches 4,000 Units 5 November 2020 新聞中心 Samco Supplies Konka Group Co., with ICP

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2. www.samco.co.jp › tw › about全球服務與支援｜莎姆克股份有限公司 - Samco

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   Samco Inc. is a semiconductor equipment company that provides process systems for both R&D and production. As a pioneer in the industry, we have developed advanced process solutions using technologies such as Atomic Layer Deposition (ALD), Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Reactive Ion Etch (RIE), Inductively Coupled Plasma ...

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3. www.samco.co.jp › tw › aboutCompany Overview｜莎姆克股份有限公司

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   Samco Inc. is a semiconductor equipment company that provides process systems for both R&D and production. As a pioneer in the industry, we have developed advanced process solutions using technologies such as Atomic Layer Deposition (ALD), Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Reactive Ion Etch (RIE), Inductively Coupled Plasma ...

4. 其他人也問了

   Samco提供什麼樣的表面處理系統?

   • 因此Samco提供塑封裝及IC導線架的表面處理用的電漿清洗及紫外臭氧清洗系統。 Aqua Plasma®清洗機主要使用水蒸氣 (H₂O)處理. 此系統可以安全又環保地進行表面處理，例如金屬的氧化還原, 有機污染物的清除, 樹脂粘合及超親水化. Samco的電漿清洗機是利用平行板系統清除試片表面有機及無機污染.

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   Samco的DLC膜製程有什麼優點?

   • Samco的DLC膜製程可以利用離子的高能量沉積極精密的膜. 這種膜有高阻隔的效能. 自從1979年SAMCO成立以來, SAMCO開發了多項乾蝕刻專業技術. 至今我們的產品線包含直開式, 真空預轉載式 (loadlock), 晶盒裝卸式 (Cassette)系統. 可滿足R&D及量產雙方客戶的需求. 爲了滿足R&D及量產等各個客戶對高密度電漿製程的需求, Samco推出了許多專業級電感偶合式電漿蝕刻 (ICP)系統. 我們可靠, 耐用及精緻的ICP蝕刻系統可讓您處理多種類的材料 (三五族化合物半導體 (GaN, GaAs, InP), 矽晶, SiC, 石英, 玻璃, 電介質及金屬).

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   Samco提供什麼樣的反應離子蝕刻系統?

   • 我們可靠, 耐用及精緻的ICP蝕刻系統可讓您處理多種類的材料 (三五族化合物半導體 (GaN, GaAs, InP), 矽晶, SiC, 石英, 玻璃, 電介質及金屬). 爲了MEMS原件加工及TSV導通孔蝕刻, Samco推出了矽深蝕刻反應離子 (DRIE)系統. Samco是日本第一家半導體設備廠商提供使用Bosch製程的DRIE系統. 我們的系統具有領先業界的製程能力, 且產品線涵蓋R&D及量產雙方的需求. 也有針對高產量的生產, 配備兩個反應腔的設備. Samco提供可靠及耐久的反應離子蝕刻 (RIE)系統給R&D及量產客戶. 省空間的精小RIE蝕刻系統適合學術上的使用及IC的失效分析芯片處理.

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   Samco提供什麼樣的電漿輔助ALD系統?

   • Samco提供高彈性的蓋板上掀式熱沉積ALD系統AL-1及真空預載 (loadlock)型電漿輔助ALD系統AD-230LP. 電漿輔助化學氣相沉積 (PECVD)是利用反應氣體轉爲電漿狀態時,所產生的活性基及離子的在基板上的化學反應形成薄膜的技術. 使用在化合物半導體及砂半導體製程上的氮化矽的保護膜 (SiN) 及界層絕緣的氧化矽膜 (SiO₂)的沉積.

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5. www.104.com.tw › company › b54gni8莎姆克股份有限公司｜公司簡介－104人力銀行

   www.104.com.tw › company › b54gni8

   公司介紹. 產業類別. 半導體製造業. 聯絡人. 暫不提供. 產業描述. 半導體製造業. 電話. 暫不提供. 資本額. 600萬元 經濟部商業司查詢. 傳真. 暫不提供. 員工人數. 5人. 地址. 暫不提供. 本公司是日本半導體設備製造商Samco Inc.（位於京都）的在台分公司，專司設備銷售及售後服務。 本公司本著負責的心意、專業的知識以及永續的經營呈現最佳的服務團隊。 日本總公司Samco Inc.成立於1979年，是日本第一家提供國產CVD設備的製造商。 Samco自成立以來一直致力於化合物半導體設備的研發，目前於全球共有14個據點，至今已累計販賣超過4,000台的設備。 顯示全部. 主要商品 / 服務項目.