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極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術，目前用於7奈米以下的先進製程，於2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
2022年7月6日 · 摘要. 1. 全球尖端半導體製造已開始被2家企業壟斷，就是台積電、和荷蘭半導體製造設備企業ASML（艾司摩爾），甚至形成沒有這兩家企業就無法生産尖端産品的狀況。. 2. 以iPhone13為例，只有ASML擁有能製造屬於心臟部位的尖端半導體設備「EUV（極紫外 ...
2021年2月15日 · 作者 TN Choice | 發布日期 2021 年 02 月 15 日 0:00 | 分類 晶片 , 材料、設備 , 零組件. | edit. 分享. 2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議（IEDM）上，台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。. 第一個報告宣布了應用 EUV 微影 ...
2020年4月22日 · 什麼是極紫外光（EUV）微影技術？關心台積電為何能連續多年業績創高，此關鍵技術絕對不能忽視，半導體設備巨頭ASML用視覺影像讓你知道EUV怎麼運作的。
极紫外光刻（英语：extreme ultraviolet lithography，台湾称为极紫外光微影，简称“EUV”或“EUVL”）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光波長的光刻技術，目前用于7納米以下的先進製程，于2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
EUV 其實是媒體簡化後的結果，其實EUV lithography 才是比較完整的稱呼，EUV中文名稱是極紫外光， 極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光，lithography最早是石版印刷的意思，現在也被用來稱呼為光刻技術，所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行 ...
維基百科，自由的百科全書. 極紫外輻射 （英語： Extreme ultraviolet radiation ）又稱 極紫外光 或 高能紫外線輻射 ，簡稱 EUV 、 XUV ，是 波長 在124 nm 到10nm之間的 電磁輻射 ，對應 光子 能量為10 eV 到124eV。. 自然界中， 日冕 會產生EUV。. 人工EUV可由 電漿 源和 同步 ...
