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電機工程 學士學位，並前往 美國 加州大學柏克萊分校 獲得電機暨電腦資訊碩士和博士學位
- 學歷 [ 編輯] 劉德音出生於 台灣 台北 。 高中畢業於 台北市立建國高級中學 ，之後在 國立台灣大學 獲得 電機工程 學士學位，並前往 美國 加州大學柏克萊分校 獲得電機暨電腦資訊碩士和博士學位 。
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高中畢業於 台北市立建國高級中學 ，之後在 國立台灣大學 獲得 電機工程 學士學位，並前往 美國 加州大學柏克萊分校 獲得電機暨電腦資訊碩士和博士學位 [3] 。 職業經歷 [ 編輯] 劉德音的職業生涯始於 美國 的 英特爾 和AT&T 貝爾實驗室 [4] 。 現任台灣半導體產業協會理事長，麻省理工學院執行長諮詢委員會成員，加州大學柏克萊分校工程學院工程諮詢委員會成員 [5] 。 1983年至1987年，進入 英特爾 公司工作，擔任技術開發製程整合經理，為英特爾 微處理器 開發矽工藝技術。 1987年到1993年，AT&T貝爾實驗室高速電子研究實驗室研究經理，研發光學通訊系統 [6] 。 1993年，加入 台積電 ，擔任工程副處長一職 [7] 。 1995年，建立台灣首座八吋晶圓廠。 [5]
2023年12月26日 · 今年59歲的劉德音，擁有建中、台大電機、加州柏克萊大學電機博士學位，也曾在英特爾和AT&T貝爾實驗室工作，以大多數人的標準來說，可算是學經歷上的「正黃旗」。 但這樣一流的半導體工程人才，在台積電1500位博士中，比比皆是，如何脫穎而出？ 熟悉台積電的外資分析師分享，張忠謀的經營法則從來不搞權謀，最看重「執行力」，只有「實力派」才能撐得下來。 不是最聰明 卻最有修養與耐力. 劉德音這個實力派，可非憑空養成。 《遠見》採訪多位劉德音老友，他們對他的共同評語 是：「天資聰穎仍然非常努力，內斂不露鋒芒，卻曖曖內含光。 」其中一位同學還想起，高三時，大年初一寒流來襲，就只有劉德音還到學校自習，認真得不得了。
劉德音 （英文名： Mark Liu ，1954年 — [1] ）， 台灣 半導體 企業家 ， 中華民國 工研院 院士 ，專業經理人。 現任 台積電 董事長 ，於2018年6月5日台積電 創辦人 张忠谋 退休后接任 [2] 。 學歷. 劉德音出生于 台湾 台北 。 高中毕业于 台北市立建国高级中学 ，之后在 國立台灣大學 获得 電機工程 学士学位，並前往 美國 加州大学柏克萊分校 獲得電機暨電腦資訊碩士和博士學位 [3] 。 职业經歷. 劉德音的职业生涯始于 美国 的 英特尔 和AT&T 贝尔实验室 [4] 。 现任台灣半導體產業協會理事長，麻省理工学院首席执行官諮詢委员会成员，加州大學柏克萊分校工程學院工程諮詢委员会成员 [5] 。
學歷. 职业經歷. 特殊榮譽. 参考文献. 劉德音. 工具. 劉德音 （英文名： Mark Liu ，1954年 — [1] ）， 半導體 企業家 ， 中華民國 工研院 院士 ，專業經理人。 現任 台積電 董事長 ，於2018年6月5日台積電 創辦人 张忠谋 退休后接任 [2] 。 學歷 [ 编辑] 劉德音出生于 台湾 台北 。 高中毕业于 台北市立建国高级中学 ，之后在 國立台灣大學 获得 電機工程 学士学位，並前往 美國 加州大学柏克萊分校 獲得電機暨電腦資訊碩士和博士學位 [3] 。 职业經歷 [ 编辑] 劉德音的职业生涯始于 美国 的 英特尔 和AT&T 贝尔实验室 [4] 。
學歷. 劉德音出生于 台湾 台北 。 高中毕业于 台北市立建国高级中学 ，之后在 國立台灣大學 获得 電機工程 学士学位，並前往 美國 加州大学柏克萊分校 獲得電機暨電腦資訊碩士和博士學位 [3] 。 职业經歷. 劉德音的职业生涯始于 美国 的 英特尔 和AT&T 贝尔实验室 [4] 。 现任台灣半導體產業協會理事長，麻省理工学院首席执行官諮詢委员会成员，加州大學柏克萊分校工程學院工程諮詢委员会成员 [5] 。 1983年至1987年，進入 英特尔 公司工作，擔任技術開發製程整合經理，为英特尔 微处理器 开发矽工艺技术。 1987年到1993年，AT&T贝尔实验室高速电子研究实验室研究经理，研發光學通訊系統 [6] 。 1993年，加入 台積電 ，擔任工程副處長一職 [7] 。
劉德音博士畢業於國立台灣大學電機工程學系，並取得美國加州大學柏克萊分校電機暨電腦資訊碩士及博士學位。
劉董事長畢業於國立臺灣大學電機工程學系，並取得美國加州大學柏克萊分校電機暨電腦資訊碩士、博士。 畢業後，劉董事長先後加入英特爾公司、美國AT&T貝爾實驗室，從事微處理器製程技術、光學通訊系統的研發工作。 1993年劉董事長加入台積電，投入興建臺灣第一座八吋晶圓廠，其後並主持建造台積電第一座十二吋晶圓廠，為公司開創超大晶圓廠的重要業務，奠定台積電在半導體晶圓製造的國際地位。 劉董事長亦多次帶領台積電晶圓廠突破技術瓶頸，大幅提升先進製程良率，透過製程技術的推進，構築競爭優勢。 從40奈米、28奈米、20奈米到16奈米以下的先進製程，一路引領全球晶圓專業製造服務業之先，延續台積電企業發展的成長動能，釋放IC設計業的創新能量，帶來多元豐富的終端裝置與應用服務。
