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CMP設備後市場是重要組成部分，公司耗材服務收入快速提升。 CMP設備耗材使用量大、核心零部件需定期維保，是後服務市場需求較大的環節。 受益本土晶圓廠大規模擴產，預估僅2022-2026年中國大陸12英寸晶圓新增產能，在2026年對CMP設備配套耗材、7分區拋光頭維保服務的需求就分別可達12億元、36億元。 2021年，公司CMP配套材料及技術服務收入達到1.11億元，2018-2021年CAGR高達205%。 隨著公司CMP設備持續大規模出貨，後服務業務有望保持高速增長態勢。 中性情形下，僅考慮2022-2026年本土新建12英寸晶圓廠擴產需求，預計公司CMP設備配套材料&技術服務的遠期收入規模將達到16.58億元。 晶圓再生需求日益增長，IPO擴產將成公司新的增長點。
從晶圓廠的投資構成來看，刻蝕設備、光刻設備、薄膜沉積設備是集成電路前道生產工藝中最重要的三類設備。 近年來，半導體行業景氣度帶動設備需求增長隨著半導體行業整體景氣度的提升，全球半導體設備市場呈現快速增長態勢，拉動市場對薄膜沉積設備需求的增加。 根據SEMI數據，薄膜沉積設備佔到晶圓製造設備投資額的25%。 集微諮詢（JW Insights）認為，薄膜沉積設備行業一方面長期受益於全球半導體需求增加與產線產能的擴充，另一方面受益於技術演進帶來的增長機遇，包括製程進步、多重曝光與3D NAND 存儲技術，全球半導體薄膜沉積設備市場規模將因此高速增長。 全球半導體設備及薄膜沉積市場規模（億美元） 數據來源：SEMI、Maximize Market Research.
工業機器人主要由控制器、伺服和減速器三大零部件構成。 這三個部件搭配共同實現機器人可控、平穩、精準地完成標準動作，每個部件都缺一不可。 （1）控制器：作為機器人的“大腦”，通過硬軟件結合來控制機器人的運動位置、 姿態和軌跡； （2）伺服電機：作為機器人的“驅動力“，根據控制器發出的命令輸出力矩，動態控制機器人的速度和位置； （3）減速器：伺服電機一般輸出的轉速高、力矩小，不能滿足機器人本體的運動需求，需要通過減速器來降低轉速、增加力矩。 減速器是機器人本體中成本佔比最高的環節。 減速器位於機器人產業鏈的上游零部件環節，產業鏈中游是機器人本體制造，下游是集成應用。 根據高工機器人數據，工業機器人總成本中減速器佔比最高，佔32%，其次伺服、外殼和控制器分別佔比20%、18%、15%。
相較於極其依靠工人親身判斷的人工碼頭，在工業互聯網賦能下的自動化碼頭可以利用設備運行情況的實時數據，預判哪臺設備哪個環節可能出現故障，做到設備的預測性維護，避免人工碼頭出故障時生產流程停止的問題，從而減少停機風險，降低管理和運營
摩爾定律的進步伴隨着工藝與設備的雙重突破，而光刻設備又是作爲推動摩爾定律一路向前行的核心設備。迄今爲止，光刻機先後歷經了五代。伴隨着製程工藝的精度持續提升，光刻機的複雜程度隨之提高。
工業自動化行業的發展前景怎麼樣？. 1、國家產業政策支持工業自動化的發展. 自動化產業作為推進信息化、智能化和工業化深度融合的先進產業，是我國產業政策支持和鼓勵的產業。. 許多政府部門相繼出臺政策或指導意見，鼓勵行業快速發展。. 2、消費升級 ...
在前道晶圓製造中，所用到的專用設備主要包括氧化/擴散設備、光刻設備、刻蝕設備、清洗設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、化學機械拋光設備。 其中刻蝕和光刻、薄膜沉積，並稱為半導體制造三大核心工藝。 “光刻”是指在塗滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然後用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。 原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質，易於腐蝕。 “刻蝕”是光刻後，用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。 然後用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導體器件及其電路。
