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  1. 5 天前 · 具體來說現階段High-NA EUV機台將數值孔徑從0.33 增加至0.55,更具高解析度圖像化能力,能夠使精準度提高、成像更加清晰且,每小時可列印超過 185個晶圓,將大大提高先進製成的產能。 ASML最新的High-NA EUV機台為「TWINSCAN NXE:3800E」,可支援幾年內3奈米及2奈米晶片製造。 圖/ ASML.

  2. 2021年12月23日 · 2021.12.23. 18:18. 工商時報 數位編輯. 台積電. ASML. EUV機台\ 現在服役的EUV機台高達1.5億美元但若是下一代的EUV機台價格更是來到3億美元讓晶圓代工廠必須忍受更高昂的生產成本來競爭/美聯社. 目前在晶圓代工領域僅台積電、三星電子以及英特爾擁有先進製程技術,並依靠荷商艾司摩爾(ASML)獨家供應的極紫外光(EUV)曝光設備來生產晶片,先前外媒也指出,英特爾想要追上競爭對手,從ASML手上取得的EUV機台數量將成為關鍵。 不過,現在服役的EUV機台價格就高達1.5億美元,但若是下一代的EUV機台價格,更是來到3億美元(超過80億元新台幣),讓晶圓代工廠必須忍受更高昂的生產成本來競爭。

  3. 2022年7月6日 · EUV設備由10萬個零部件構成,重約200噸。 由於是每台高達200億日元的高性能設備,2021年的供貨量僅為42台。 多數面向台積電,但設備相關企業的高管表示「現在各國政府也捲入其中,爭奪戰呈現白熱化的狀態」。

  4. 2022年2月3日 · 台積電拚先進製程EUV機台數量贏了 專家曝2025挑戰全球最大. 台積電。 (資料照/記者高兆麟攝) 記者吳康瑋/綜合報導....

  5. 2024年5月16日 · ASML是全球唯一生產7奈米以上EUV機台的廠商而且一年只生產40至50台造成台積電三星英特爾海力士美光等業者競相搶購。 英特爾之前先進製程發展一度停滯,正在奮力追趕,這回搶頭香拿下ASML最新的High-NA EUV曝光機EXE:5000,未來將導入14A製程,宣示技術領先的意味濃厚。...

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  7. 2021年2月15日 · 那款機型是繼 ADT 後的 EUV 研發機台。 ASML 一共做了六台,分別運往了三星、imec、英特爾、東芝、海力士和台積電。 光源是美國 Cymer 公司提供的。 因為是第一次採用雷射電漿(laser-produced plasma,LPP)技術來產生波長為 13.5 奈米的 EUV 光,3100 的光源非常弱,最佳狀態時只能輸出 10 瓦的功率,是現在量產機台(輸出功率 250 瓦)的二十五分之一,而且可靠性低,經常故障。 但我相信它是可以進步的, 因為研發中的下一代光源在 Cymer 的實驗室裡已經演示出高於 10 瓦數倍的功率,雖然只是短暫的瞬間,而不是七天二十四小時持續發光。 而且那時我們第一要關心的不是光源的輸出功率,而是微影機台鏡頭的解析度。

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