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極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術，目前用於7奈米以下的先進製程，於2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
2022年7月6日 · 世界上只有ASML擁有能製造屬於心臟部位的尖端半導體的設備。只能使用該公司開發的「EUV（極紫外）光刻設備」生産，全球份額達到100％。 同時，能利用這種EUV設備、以較高成品率穩定生産尖端半導體的企業目前在世界上也幾乎只有台積電這1家。
2021年4月17日 · 晶片之於曝光機，就如同人和大腦的關係，但縱覽幾十年全球球光刻機產業的發展卻表現的差強人意，呈現出了唯有荷蘭 ASML 「一家獨大」的局面。 T客邦為提供您更多優質的內容，採用網站分析技術，若您點選「我同意」或繼續瀏覽本網站，即表示您同意我們 ...
2023年10月28日 · 光是為了讓雷射室的氣體不被錫滴本身的反光干擾，加上要讓雷射順利離開雷射室，廠商花了10年才克服這項挑戰。 如何將EUV光反射到矽晶片上 聽起來很簡單，但一樣是難到爆的事。 因為EUV波長接近X光線，這樣的波長很容易被許多材料給吸收，一般鏡子
2020年4月22日 · 在台積電法說會上，EUV是近年不斷提到的微影製程名稱，也是現今能在晶片上畫出最精密線路的光罩技術，究竟微影技術是什麼？ 在神秘的半導體無塵室如何進行？
2020年12月4日 · EUV，全名為Extreme Ultraviolet，中文叫做「極紫外光」，是一種波長極短的紫外光，一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米，而極紫外光才13.5 奈米而已，可說是頻率更高、能量更強的光，不過因為這個波段的光很容易被空氣等介質吸收，反而不如紫外光對人體有那麼多影響哦！ 在上一篇 《打造IC裡的樂高世界 — 微影製程》 裡我們提到微影製程...
2021年2月15日 · EUV 微影技術使摩爾定律得以延續。 ASML 上週財報中指出該公司於 2020 年底慶祝第 100 台 EUV 極紫外光微影系統出貨。 台灣目前更是全球 EUV 最大的裝機基地。 EUV 微影技術歷經 20 餘年的實驗室研發，以及 12 年的量產研發，至今成為半導體先進製程中最重要的生產工具。 ASML 全球副總裁暨技術開發中心主任嚴濤南，正是推動 EUV 應用在量產階段的靈魂人物。 ASML 全球副總裁暨技術開發中心主任嚴濤南博士. EUV 微影技術採用錫的電漿來產生波長為 13.5 奈米的光源，以及用鉬矽多層反射薄膜來把光傳遞到晶片上。 不同於一般的紫外光微影技術，EUV 微影技術得在低真空中運作，技術難度更高。
其他人也問了
EUV曝光機有幾個零件?
什麼是EUv光罩?
哪個光刻機比較先進?
euv微影是什麼?
