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  1. today.line.me › tw › v2如果中國打來，ASML及台積電能遠端癱瘓EUV！EUV是什麼？一文看台 ...

    數位時代. 根據《彭博社》透露，若中國入侵台灣，荷蘭的ASML和台積電（TSMC）有能力遠端關閉全球最先進的晶片製造設備EUV（Extreme Ultraviolet），這將有效地防止關鍵技術落入中國手中。. 美國政府私下向荷蘭和台灣的官員表達了對此情況的擔憂，並尋求保證 ...

  2. today.line.me › tw › v2孔徑數自 0.33 到 0.7，一手掌握 ASML EUV 發展布局 | 科技新報 ...

    總結來說，孔徑數 0.55 的 EUV 是現在半導體先進製程的主要做系統，其也在進行可靠度與工作產能的提升。至於孔徑數 0.55 的 High-NA EUV ，ASML 目前正在研發中，預計 2025 年開始量產，其具有更高的辨識率，幫助半導體先進製程簡化程序來降低

  3. today.line.me › tw › v2英特爾搶用新EUV 專家：成本高虧損恐擴大 | 中央通訊社 | LINE TODAY

    ASML每套EUV設備價格約1.8億美元，High-NA EUV設備報價高達3.8億美元，較EUV高出1倍以上，約新台幣122億元。 楊瑞臨表示，半導體先進封裝重要性日益提高，將扮演關鍵配套角色，英特爾爭搶High-NA EUV設備，是「選錯戰場、武器」，因為High-NA EUV設備不是未來左右輸贏 ...

  4. today.line.me › tw › v2紀念性一刻！ASML 最新 High-NA EUV，成功印首條 10 奈米密集線 ...

    ASML 是第一間宣布使用 High-NA EUV 系統並成功圖案化的公司，對半導體產業是個重要里程碑。根據該公司貼文和照片，High-NA EUV 系統已成功列印出第一條 10 奈米密集線（dense lines），而該公司 ASML 官網提到，該設備的理論極限是 8 奈米。

  5. today.line.me › tw › v2ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸，神隊友救援力拚原時程問世 | ...

    然而第二代 EUV 曝光機研發階段遭遇瓶頸，原本預計最快 2023 年問世，傳出可能延後到 2025~2026 年，延後近 3 年，市場人士擔心將影響半導體製程研發。. 不過雖遭遇研發瓶頸，卻有神隊友救援。. 外電報導指出，日本最大半導體鍍膜極蝕刻設備公司東京電子 ...

  6. today.line.me › tw › v2EUV機台耗電量增10倍 台積電大數據提升5%效率 | 中央通訊社 | ...

    半導體技術日新月異，台積電指出，極紫外光（EUV）技術的應用是半導體製程成功演進到5奈米以下的關鍵，但EUV機台耗電量是傳統深紫外光微影（DUV）機台的10倍以上。. 為兼顧製程技術演進與環境永續，台積電攜手供應商積極投入「新世代機台節能行動專案 ...

  7. today.line.me › tw › v2台積電先進製程的未來 藏在一座台南的氫氣廠 | 天下雜誌 | LINE TODAY

    「這些氫氣生產設備將滿足極紫外光微影技術（EUV）應用中，對超高純度氫氣的新興需求，並利用更環保的氫氣製程，支援台灣主要半導體產業客戶對環境與氣候的目標。」 台積電與美商半導體企業都派代表出席 誰是「主要半導體客戶」？應該不難想像。

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