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  1. 2024年5月16日 · 台積電業務開發資深副總經理暨副共同營運長張曉強說,台積電A16先進製程節點不一定需要高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV),原因是太貴了 ...

  2. 2022年7月6日 · 世界上只有ASML擁有能製造屬於心臟部位的尖端半導體的設備。只能使用該公司開發的「EUV(極紫外)光刻設備」生産,全球份額達到100%。 同時,能利用這種EUV設備、以較高成品率穩定生産尖端半導體的企業目前在世界上也幾乎只有台積電這1家。

  3. 2021年12月24日 · 1.ASML的高數值孔徑EUV曝光機,預計將於2022年至2023年起供貨,每套售價逾83億,為0.33孔徑EUV曝光設備1倍。2.EUV曝光設備是半導體先進製程關鍵,且是10奈米以下先進製程的必備關

  4. 2022年5月21日 · 外媒報導,獨家供應半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)新一代 High-NA EUV 設備飆出新天價,由於機台比前一代還要大30%,至少需要三架波音 747分批運送,預估一台要價約 4 億美元(約台幣119億元);有專家形容,買下High-NA EUV 設備就像擁有一

  5. 4 小時前 · 據報導,這台EUV機的價格高達3.5億歐元(約新台幣1241.2億元),重量相當於兩架空中巴士A320客機。該設備能以僅8 奈米厚的線印壓半導體,較前一代 ...

  6. 4 小時前 · 半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 先前已經向英特爾 (intel) 交貨世界首台商用 High-NA EUV 曝光機並完成安裝。對此,英特爾院士 Mark Phillips 已經確認,並指出這套設備將於年底前正式啟用。相較於英特爾,晶圓代工龍頭台積電則似乎並不急於加入這場技術競賽當中。

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