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極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術，目前用於7奈米以下的先進製程，於2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
2020年12月4日 · EUV，全名為Extreme Ultraviolet，中文叫做「極紫外光」，是一種波長極短的紫外光，一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米，而極紫外光才13.5 奈米而已，可說是頻率更高、能量更強的光，不過因為這個波段的光很容易被空氣等介質吸收，反而不如紫外光對人體有那麼多影響哦！ 在上一篇 《打造IC裡的樂高世界 — 微影製程》 裡我們提到微影製程...
极紫外光刻（英语：extreme ultraviolet lithography，台湾称为极紫外光微影，简称“EUV”或“EUVL”）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光波長的光刻技術，目前用于7納米以下的先進製程，于2020年得到廣泛應用 [1] [2] [3] [4] 。
2020年4月22日 · 什麼是極紫外光（EUV）微影技術？. 關心台積電為何能連續多年業績創高，此關鍵技術絕對不能忽視，半導體設備巨頭ASML用視覺影像讓你知道EUV怎麼運作的。. ＃台積電. 採訪中心. 台積電連續10年營收創高，率先全球採用極紫外光（EUV）微影技術推動7奈米技術 ...
2021年2月15日 · EUV 微影技術採用錫的電漿來產生波長為 13.5 奈米的光源，以及用鉬矽多層反射薄膜來把光傳遞到晶片上。 不同於一般的紫外光微影技術，EUV 微影技術得在低真空中運作，技術難度更高。 EUV 微影技術以實驗室形式的研發（日本，美國，歐洲，包括 ASML 和 Cymer）已經走過了二十多年卻仍達不到量產的技術要求，但也沒有被放棄。 理由只有一個：因為沒有 showstopper（明顯的重大問題）。 當時業界普遍認為如果 EUV 能用於量產就可以讓摩爾定律延續生命。 這是個巨大的誘惑。 台積電是全球最大的半導體代工廠，在先進製程獨占鰲頭，其開發所有新技術的目的只有一個：最終用於量產。 而開發用於量產的 EUV 微影技術就落到了我的肩上。
半導體製程的原理是「差異蝕刻」：半導體基板上被光照射的區域會發生化學變化，使其化學成分或是硬度和其他部分不同。 在蝕刻的過程，硬度低的區域將消失，硬度高的區域將留下。
極紫外輻射 （英語： Extreme ultraviolet radiation ）又稱 極紫外光 或 高能紫外線輻射 ，簡稱 EUV 、 XUV ，是 波長 在124 nm 到10nm之間的 電磁輻射 ，對應 光子 能量為10 eV 到124eV。 自然界中， 日冕 會產生EUV。 人工EUV可由 電漿 源和 同步輻射 源得到。 主要用途包括 光電子譜 、對日EUV成像望遠鏡及 光微影技術 等。 EUV是最易被空氣吸收的譜段，因此其傳輸環境需高度真空。 EUV的產生 [ 編輯] 中性原子或固體無法發射EUV。 產生EUV，首先要發生 電離 。 只有被帶多個正電荷的 離子 束縛的 電子 才能夠發射EUV。 例如，把+3碳離子繼續剝除一個電子的過程需要65eV，其中的電子比普通價電子更受束縛。
