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技術原理. 光學膜厚量測儀主要是使用垂直的光源入射樣品,偵測反射光譜的非接觸技術,不需要任何樣品準備就可以測量厚度,適用於半透膜樣品,只需一秒鐘分析從薄膜反射的光就可確定薄膜厚度,光學膜厚量測儀還可以測量多層薄膜的厚度。 分析應用. 薄膜厚度量測. 多層膜厚量測. 可量測介電層、氧化層、金屬膜等,有機、無機膜厚均可量測. 最小量測尺寸 10um. 厚度範圍:20nm~20um. 機台種類. 圖-1 Filmetrics F40. 應用實例. 圖2 單層薄膜厚度量測 (SiO2:316.38nm) 圖3 多層薄膜厚度量測 (Si:614.2nm / W:54.63nm / Si3N4:122.4nm) 常見問題. Q1. 光學膜厚量測儀樣品分析尺寸大小限制 ?
產品分類. 膜厚儀. 以『光學』『非接觸』『高精度』為主軸,配合大塚電子的核心技術光譜儀為心臟部位製成的膜厚量測儀,可在短時間內完成膜厚測量。 非破壞式膜層進行高速膜厚解析,有平行光、顯微鏡、橢圓偏光、全幅寬、產線專用等. 選擇,是企業膜厚計選擇最好的解決方案。 相關技術應用可參考 📖 技術文章-膜厚儀📖. 應該如何選擇膜厚儀 🔖膜厚計推薦選擇指南🧾. 也可以直接洽詢我們 📞洽詢膜厚相關設備📧. 部分機型提供付費委測服務 🔬付費委測服務說明🥼. 顯微分光膜厚量測儀OPTM series. 高精度、高再現性量的非接觸式顯微膜厚計。 最小對應spot約3μm、單點對焦加量測於1秒內完成. 橢圓偏光量測儀FE-5000S. 使用光譜橢圓法分析方法的薄膜厚度測量儀。 優恵的價格提供薄膜的全方位量測。
現行光學薄膜膜厚量測法,可大致分為反射分光法與橢圓偏光法兩種。 有人說橢圓偏光比較準,真的是這樣嗎? 大塚電子本身就有這兩種原理的機台,究竟有什麼不同,請見下面內容。 光學膜厚量測原理比較. 反射分光膜厚量測. 反射分光法也稱為光干涉法,搭載光譜儀的反射架構下,由反射率進一步求得光學膜厚。 主要利用上圖R1 (膜層表面的反射)以及R2 (膜層介面的反射)兩道光的光程差進行演算求得。 橢圓偏光膜厚量測. 橢圓偏光法是藉由入射光與反射光的偏振狀態不同,使用照射前的P偏振光以及S偏振光產生相位差做計算。 光學膜厚量測方法各有擅長的領域. 一般而言橢圓偏光法較擅長量測超薄膜 (約10nm)以下,但是也有下列問題. 因為參數較多也提升分析難度。 因為需要收不同角度的偏振光,單一點位量測時間較長。
光學式:光學膜厚儀,除了厚度以外也可以求得折射率以及消光係數(n,k值)等光學常數,在光學膜的領域可以說光學式膜厚計是不二人選。光學式膜厚除了光學膜以外,也被廣泛利用在各種膜層。 Xray:Xray在非接觸式中,算是價位比較高的。
2023年7月19日 · 膜厚是多個產業都需要監控的物性值,以光學式可以達到快速、非破壞、高精度、聚焦小面積等特性,為您介紹光干涉法的原理以及適用範圍。 產品資訊:顯微分光膜厚量測儀OPTM serieshttps://www.otsuka-tw.com/product-detail/OPTM/...
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- 大塚科技股份有限公司
首頁 » 產品介紹 » 化學生技 » KLA Corporation. KLA Corporation. info@scientech.com.tw. 膜厚量測儀、接觸式輪廓儀可量測樣品表面的形狀,辛耘引進KLA Corporation最專業的膜厚量測儀、接觸式輪廓儀,為各種量測情況所量身打造的最佳解決方案。. D-500/D-600 接觸式輪廓儀/膜厚 ...
F20是世界上最暢銷的桌上型薄膜厚度量測系統,提供多種附件和厚度覆蓋範圍。 在全球有數百種應用,膜厚和折射率可以在不到一秒的時間內完成測量。 不同型號的 F20 主要區別在於厚度測量範圍,而厚度測量範圍又取決於儀器的波長範圍。 有多種配件選擇,可滿足絕大部分薄膜厚度量測需求。 F3-sX採用近紅外光(NIR)來測量膜層厚度,可測量許多半導體及不透明膜層的厚度,可測厚度達3mm。 此類厚膜,相較於較薄膜層表面較粗糙且不均勻。 F3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑,因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。 而且能在一秒內完成量測。 詳細規格. F40是結合顯微鏡物鏡和彩色攝影機的膜厚量測儀,適合需要在待測樣品表面上進行微小限定區域的量測,或者其他應用要求小光斑時的最好選擇。