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干涉測量術 [1] [2] (英語: interferometry )又稱 干涉量度學 ,簡稱 干涉術 、 干涉法 ,是通過由波的疊加(通常為 電磁波 )引起的 干涉 現象來獲取資訊的技術 [3] ;其將載有被測物資訊的 探測光 與 參考光 干涉,形成 空域 或者 時域 干涉條紋,從而實現 光傳感 、 光學計量 和各種 光學測試 技術。 例如:進行精密 距離 和 時間 的測量。
2021年12月17日 · 原理. 電子能量損失譜與EDX. 厚度測量. 參閱. 參考文獻. 外部連結. 電子能量損失譜. 理想的EELS光譜示意圖,橫軸表示能量損失,從左至右分別是零損失峰、電漿共振峰、內層電子損失峰及精細結構. 電子能量損失譜 (英語: Electron energy loss spectroscopy ,縮寫: EELS )是 物理學 及 材料科學 等研究領域的重要表徵手段,該技術始於1940年代。 在電子能量損失光譜(EELS)中,具有已知動能的電子束入射待測材料後,部分電子與原子交互作用發生 非彈性散射 ,損失部分能量並且路徑發生隨機的小偏轉,這個過程中能量損失的大小經 電子能譜儀 (英語:Electron spectrometer) 測量並得以分析解釋。
光學相干斷層掃描也被廣泛的應用於工業界,如無損檢測、材料厚度測量、表面粗糙度測量、表面和截面成像 [27] 以及體積損耗測量。帶有反饋的光學相干斷層掃描系統可以用於控制製造過程。
維基百科,自由的百科全書. 薄膜電阻 (sheet resistance),又被稱為方塊電阻、方阻,是具有均勻厚度薄膜 電阻 的量度,通常被用作評估半導體摻雜的效果。. 使用這種概念的例子有: 半導體 的 摻雜 領域(比如 矽 或者 多晶矽 ),以及被絲網印刷到 薄膜混合微 ...
渦電流檢測目前是一種廣泛使用並易於理解的缺陷檢測技術,並且也被用於厚度以及電導率的測量。 Frost & Sullivan於2012分析全球非破壞檢測設備的市場,評估包含渦電流、磁粒檢測、渦電流陣列和遠場渦電流檢測在內的電磁非破壞檢測設備佔有2.2億美元的市場價值,這個市場將以7.5%的複合年均增長率成長,預計到了2016年會增長至3.15億美元。 原理 [ 編輯] 以最簡單的形式來說:單元件探頭,一個線圈導體被交流電電流所驅動。 該線圈在其周圍產生交變磁場。 磁場與流經線圈的電流以相同的頻率振盪。 當線圈接近導電材料時,在材料中感應出與線圈中的電流相反的電流,這個電流就是渦電流。 基本上標準的渦電流,就是透過測量線圈中阻抗的變化來測量對象的電導率、磁導率以及檢測缺陷。
它常被用來鑑定單層或多層堆疊的薄膜厚度,可量測厚度由數埃(Angstrom)或數奈米到幾微米皆有極佳的準確性。 之所以命名為橢圓偏振,是因為一般大部分的偏振多是橢圓的。此技術已發展近百年,現在已有許多標準化的應用。
假設照射一束光波於 薄膜 ,由於 折射率 不同, 光波 會被薄膜的上界面與下界面分別反射,因相互 干涉 而形成新的光波,這現象稱為 薄膜干涉 。. 對於這現象的研究可以透露出關於薄膜表面的資訊,這包括薄膜的厚度、折射率。. 薄膜的商業用途很廣泛 ...