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臺灣正體. NASA 的淨室. 建設中的 微電子 生產用無塵室. 全套的無塵室服裝. 無塵室 ，又稱 淨室 、 潔淨室 或 清淨室 ，是指一個具有低污染水準的環境，這裡所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發性氣體。. 更準確地講，一個無塵室 ...
序言. 設備. 反應離子刻蝕. 無塵室中一組商用反應離子蝕刻設備. 反應離子蝕刻（英文：Reactive-Ion Etching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工工藝，它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料，來達到 刻蝕 的目的。 氣體在低 壓 （ 真空 )環境下由 電磁場 產生，電漿體中的高能 離子 轟擊晶片表面並與之反應。 設備 [ 編輯] RIE系統的典型的設備（平行板式）一般包括一個圓柱形真空室，真空室底部放置用來放晶片盤子。 盤子與室體的其他部分絕緣。 氣體由小口注入真空室上部，由底部排出進入真空泵。 氣體的種類和多少取決於蝕刻的程序。 比如， 六氟化硫 經常用來蝕刻 矽 。
净室 ，又稱 无尘室 、 潔淨室 或 清淨室 ，是指一个具有低污染水平的环境，這裡所指的污染來源有灰尘，空气传播的微生物，悬浮颗粒，和化学挥发性气体。 更准确地讲，一个净室具有一个受控的污染级别，污染级别可用每立方米的颗粒数，或者用最大颗粒大小来厘定的。 低级別的净室通常是没有经过消毒的（如没有受控的微生物），更在意的是無塵室中的灰尘。 淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。
淨室設計 （英語： Clean room design ），也稱 中國牆 技術 （ Chinese wall technique ），是一種以 逆向工程 然後重新創作以複製某項設計，但不會侵犯與原始設計相關的任何 著作權 方法。 淨室設計有助於防止侵犯著作權，因為它立足於獨立的發明創造。 但是，因為獨立的發明創造不是對抗 專利 的有效辯護，淨室設計通常不能用於規避專利限制。 該術語意指設計團隊在未使用競爭對手任何專有技術知識的「乾淨」或明顯不受污染的環境中工作。 通常來說，淨室設計會先讓某人檢查系統如何重新實現，並撰寫一份規範。 然後 律師 審查這份規範，確保其不包含受到著作權保護的資料。 最後由與原檢查員無關的團隊實現該規範。 例子 [ 編輯]
風機過濾機組 (英文: Fan Filter Unit ，簡稱: FFU )，是一種結合送風機與高效濾網 ( HEPA /ULPA)氣流循環與過濾之 無塵室 潔淨設備，主要是用來過濾來自作業場所空氣中所存在有害空氣中的粉塵顆粒，提供潔淨之空氣。 FFU的無塵室大致可分 層流 型 (laminar)與 紊流 型 (turbulent)無塵室兩大類 [1] ，層流型都在Class 1000以下，而紊流型無塵室則是在Class 1000以上；主要安裝於無塵室天花板上及機台上方 [2] ，或網格地板內安裝此設備，提供無塵室與機台所需之氣流循環與空氣濾淨；在 台灣 ，使用此設備大致採送風式居多。
HEPA高效濾網除了攔截大顆粒懸浮物、黴菌孢子、煙霧等...難聞氣味外，亦可遠離過敏源、細菌；可廣泛用於醫療院所、藥廠、航空業、食品業、研究單位、電子廠、無塵室。[3] 濾網的標準由美國能源部設定，對粒徑在0.3μm的粒子， 過濾效果約為DOP 99.97%
净室设计 （英語： Clean room design ），也称 中国墙 技术 （ Chinese wall technique ），是一种以 逆向工程 然后重新创作以复制某项设计，但不会侵犯与原始设计相关的任何 著作權 方法。 净室设计有助于防止侵犯版权，因为它立足于独立的发明创造。 但是，因为独立的发明创造不是对抗 专利 的有效辩护，净室设计通常不能用于规避专利限制。 该术语意指设计团队在未使用竞争对手任何专有技术知识的“干净”或明显不受污染的环境中工作。 通常来说，净室设计会先让某人检查系统如何重新实现，并撰写一份规范。 然后 律师 审查这份规范，确保其不包含受到版权保护的资料。 最后由与原检查员无关的团队实现该规范。 例子.
