無塵室工作桌 相關
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無塵室 ，又稱 淨室 、 潔淨室 或 清淨室 ，是指一個具有低污染水準的環境，這裡所指的污染來源有灰塵，空氣傳播的微生物，懸浮顆粒，和化學揮發性氣體。 更準確地講，一個無塵室具有一個受控的污染級別，污染級別可用每立方米的顆粒數，或者用最大顆粒大小來厘定的。 低階別的無塵室通常是沒有經過消毒的（如沒有受控的微生物），更在意的是無塵室中的灰塵。 淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。
序言. 設備. 反應離子刻蝕. 無塵室中一組商用反應離子蝕刻設備. 反應離子蝕刻（英文：Reactive-Ion Etching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工工藝，它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料，來達到 刻蝕 的目的。 氣體在低 壓 （ 真空 )環境下由 電磁場 產生，電漿體中的高能 離子 轟擊晶片表面並與之反應。 設備 [ 編輯] RIE系統的典型的設備（平行板式）一般包括一個圓柱形真空室，真空室底部放置用來放晶片盤子。 盤子與室體的其他部分絕緣。 氣體由小口注入真空室上部，由底部排出進入真空泵。 氣體的種類和多少取決於蝕刻的程序。 比如， 六氟化硫 經常用來蝕刻 矽 。
無塵室空調的特性 [ 編輯] 一般空調要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；無塵室空調必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。. 由於半導體製程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在無塵室大部分區域必須控制在± 1°C及± 3%之內。. 由於半導體 ...
換氣次數 ( air exchange per hour )又稱 換氣率 ( air exchange rate )，指單位時間內空氣更換的次數，通過單位時間進入房間的風量（m 3 /h）除以房間體積 (m 3 )計算而得。. 如果房間通風方式為均勻送風或完全混合送風，換氣次數是評價室內空氣換氣頻率多少的一個指標 ...
净室 ，又稱 无尘室 、 潔淨室 或 清淨室 ，是指一个具有低污染水平的环境，這裡所指的污染來源有灰尘，空气传播的微生物，悬浮颗粒，和化学挥发性气体。 更准确地讲，一个净室具有一个受控的污染级别，污染级别可用每立方米的颗粒数，或者用最大颗粒大小来厘定的。 低级別的净室通常是没有经过消毒的（如没有受控的微生物），更在意的是無塵室中的灰尘。 淨室的定義為：將空間範圍內之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔淨的環境。 亦即：這個環境中的微塵粒子相當少，稱之為無塵室。
HEPA高效濾網除了攔截大顆粒懸浮物、黴菌孢子、煙霧等...難聞氣味外，亦可遠離過敏源、細菌；可廣泛用於醫療院所、藥廠、航空業、食品業、研究單位、電子廠、無塵室。[3] 濾網的標準由美國能源部設定，對粒徑在0.3μm的粒子， 過濾效果約為DOP 99.97%
總部核心是兩個最先進的潔淨室，運行半工業操作（24/7）。 有一個專注於研發10奈米製程技術的300毫米無塵室（450毫米無塵室也已準備好）和一個用來進行研究發展、需求導向發展、原型和小批量製造超過摩爾定律的技術（傳感器、致動器和MEMS，NEMS等）之200毫米無塵室。
