白鐵蝕刻 相關
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蝕刻 是指以 酸性 、 腐蝕性 或有 研磨 效用的物質在 玻璃 表面上 創作 的技術。 傳統上，這段過程是在玻璃吹製好或鑄好之後進行的。 1920年代，人們發明一種新的模刻技術，即將圖案直接刻在 鑄模 上。 所以當鑄模好了之後，圖案就已經在玻璃的表面上了。 這項技術降低了製作成本，且結合 彩色玻璃 的廣泛運用導致了1930年代便宜花瓶的出現，這些花瓶後來被稱之為「Depression glass」。 因為用在此過程中的酸劑很危險，現在大多是使用研磨的方法。 到了近代，現在的蝕刻應用在 半導體 的製程上，透過 黃光製程 來定義出想要的圖形，利用蝕刻來得到。 半導體的蝕刻可分為乾式蝕刻與溼式蝕刻：
蝕刻 是指以 酸性 、 腐蝕性 或有 研磨 效用的物質在 玻璃 表面上 創作 的技術。 傳統上，這段過程是在玻璃吹製好或鑄好之後進行的。 1920年代，人們發明一種新的模刻技術，即將圖案直接刻在 鑄模 上。 所以當鑄模好了之後，圖案就已經在玻璃的表面上了。 這項技術降低了製作成本，且結合 彩色玻璃 的廣泛運用導致了1930年代便宜花瓶的出現，這些花瓶後來被稱之為「Depression glass」。 因為用在此過程中的酸劑很危險，現在大多是使用研磨的方法。 到了近代，現在的蝕刻應用在 半導體 的製程上，透過 黃光製程 來定義出想要的圖形，利用蝕刻來得到。 半導體的蝕刻可分為乾式蝕刻與溼式蝕刻：
刻蝕 （英語： etching ）是 半導體器件製造 中利用化學途徑選擇性地移除沉積層特定部分的工藝。 刻蝕對於器件的電學性能十分重要。 如果刻蝕過程中出現失誤，將造成難以恢復的矽片報廢，因此必須進行嚴格的工藝流程控制。 半導體器件的每一層都會經歷多個刻蝕步驟。 [1] 刻蝕一般分為電子束刻蝕和光刻，光刻對材料的平整度要求很高，因此，需要很高的清潔度。 但是，對於電子束刻蝕，由於電子的波長極短，因此解析度與光刻相比要好的多。 因為不需要掩模板，因此對平整度的要求不高，但是電子束刻蝕很慢，而且設備昂貴。 對於大多數刻蝕步驟，晶圓上層的部分位置都會通過「罩」予以保護，這種罩不能被刻蝕，這樣就能對層上的特定部分進行選擇性地移除。 在有的情況中，罩的材料為 光阻 性的，這和 光刻 中利用的原理類似。
蝕刻版畫 是一種 版畫 的作畫方法，先在 金屬 板上雕刻，然後用強 酸 腐蝕，製成凹版，再用油墨印刷成版畫。 現代也有用其他材料和其他化學腐蝕劑的方法。 做蝕刻版畫的金屬板一般用 銅 、 鋅 或 鋼 板，先塗上一層 蠟 ， 畫家 用針作畫，也可以用寬刀畫粗面 [1] ，畫出的線和面的蠟被去除，然後放到酸浴中浸泡 [2] 或用酸洗 [3] ，去除蠟的部分被腐蝕凹進去，完成後將蠟洗去，塗上油墨，擦去表面的油墨，只剩下凹線中的油墨，再用壓力轉印到紙上 [4] 。 一張版可以印製幾百張版畫，直到版面磨損。 畫家在製作蝕刻版畫時，有時也直接刻制、修復部分線條。 參考 [ 編輯] 木刻版畫. 銅版畫. 外部連結 [ 編輯] 大都會博物館的蝕刻版畫 （ 頁面存檔備份 ，存於 網際網路檔案館 ）
2023年7月19日 · 蚀刻. 蚀刻 是指以 酸性 、 腐蚀性 或有 研磨 效用的物质在 玻璃 表面上 创作 的技术。. 传统上，这段过程是在玻璃吹制好或铸好之后进行的。. 1920年代，人们发明一种新的模刻技术，即将图案直接刻在 铸模 上。. 所以当铸模好了之后，图案就已经在玻璃的表面 ...
臺灣正體. 工具. 噴砂石牆. 柴油機驅動的壓縮機用作噴砂的氣源. 噴砂前後 塗層 缺陷處的 腐蝕坑 （英語：Coating） 管道 外壁上的 塗層 缺陷. 噴砂 ，又名 噴丸 、 打砂 ，針對素材表面進行的一種破壞性的加工方式，利用細小的研磨砂材顆粒對素材表面衝擊,讓表面產生像顆粒化般的凹陷使之形成霧面或侵蝕面，而達到除金銹、去毛刺、去氧化層、應力處理、摩擦系數調整、精密度調整、高附著力、美化、霧化、消光、提升素材表面的光潔度等效果。 歷史 [ 編輯] 噴砂的過程是由班傑明·蒂爾曼 (Benjamin Tilghman)在十九世紀末開發的。 他於1870年製造了一台機器以便從工件表面容易地剝離銹和油漆。 1893年起工業界很快使用了這種不可或缺的技術以清潔大型工件表面。
白鐵是不同含鐵材料的俗稱，可指： 不鏽鋼 [1] 鍍鋅鐵 [2] 馬口鐵 [3] 參考資料 [編輯] ^ 溫, 順華. 管線設計與安裝. 五南圖書出版股份有限公司. 2022: 11. ISBN 9789577638069. ^ 魏, 明通. 普通化學. 五南圖書出版股份有限公司. 2006: 277 ...
