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第二種為(CVD) Chemical Vapor Deposition化學氣相沉積方法,比HPHT生長鑽石更早採用,但這種方法能夠使用相對較適中的溫度(700 C 至 1300 C)和較低的壓力來培育合成鑽石,生長過程通常需要 4-6 週,過程更加耗時,原因為金剛石晶體在生長過程中通常
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