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它常被用來鑑定單層或多層堆疊的薄膜厚度，可量測厚度由數埃（Angstrom）或數奈米到幾微米皆有極佳的準確性。 之所以命名為橢圓偏振，是因為一般大部分的偏振多是橢圓的。此技術已發展近百年，現在已有許多標準化的應用。
薄膜電阻 (sheet resistance)，又被稱為方塊電阻、方阻，是具有均勻厚度薄膜 電阻 的量度，通常被用作評估半導體摻雜的效果。. 使用這種概念的例子有： 半導體 的 摻雜 領域（比如 矽 或者 多晶矽 ），以及被絲網印刷到 薄膜混合微電路 基底上的電阻。. 薄膜 ...
2021年12月17日 · EELS可以用來測量薄膜厚度。 不難證明，沒有經歷非彈性散射的電子數目隨樣品厚度指數衰減。 而這部分電子的相對數目可以通過計算零損失峰的面積I與整個譜的面積之比I 0 而獲得。 利用公式： ，l是非彈性散射長度，與材料特性有關 [6] ；樣品厚度t因此可以被計算出來。
薄膜 材料是指厚度介於單原子到幾毫米間的薄金屬或有機物層。 電子半導體 功能器件和 光學鍍膜 是薄膜技術的主要應用。 一個很為人們熟知的表面技術的應用是家用的 鏡子 ：為了形成反射表面在鏡子的背面常常鍍上一層金屬，鍍銀操作廣泛應用於鏡子的製作，而低於一個納米的極薄的鍍層常常用來製作 雙面鏡 。 當光學用薄膜材料（例如減反射膜消反射膜等）由數個不同厚度不同反射率的薄層複合而成時，他們的光學性能可以得到加強。 相似結構的由不同金屬薄層組成的周期性排列的薄膜會形成所謂的 超晶格結果 。 在超晶格結構中，電子的運動被限制在二維空間中而不能在三維空間中運動於是產生了 量子阱效應 。 薄膜技術有很廣泛的應用。 長久以來的研究已經將鐵磁薄膜用於計算機存儲設備，醫藥品，製造薄膜電池，染料敏化太陽能電池等。
四端點測量技術 ，又稱為 四端測試法 ， 開爾文測量法 ，是一種電子線路中的 阻抗 測量法，主要用於 電阻 阻值的精確測量。 一般測量的局限 [ 編輯] 根據 歐姆定律 ， ，電阻阻值的測量可通過測量電阻兩端電壓V與流經電阻的電流I來實現。 左圖為理想的測量情形，電壓表直接測得電阻兩側電壓，此測量結果未受導線壓降影響。 測量電阻的一般方法. 不論是近距離還是遠距離測量阻值，測量結果都會受到導線 壓降 的影響而造成精確度的損失，遠距離測量時由於導線造成的壓降更大而造成不可忽略的影響。 然而實際測量中受限於某些條件而只能遠距離測量電壓 [1] ，此時由於遠距離測量中大電流流經長導線造成了不可忽視的壓降，而對測量電阻阻值造成影響。 解決方案 [ 編輯] 四端點測量技術示意圖.
測量儀器 （英語： Measuring instrument ）又稱 測量儀表 、 檢測儀表 ，簡稱 度量器 、 度量儀 ，是用來進行各種測試而取得相關數據的 度量 工具，即測量時所使用的測定「儀」或「器」。 在 物理學 、 工程學 、以及 品質保證 上，皆有需要通過測量來獲得的相關 物理量 。 而使用測量儀器正是一種標準化的測量手段。 但是由於儀器生產過程，以及測量誤差等種種原因，通過各種測量儀器所獲得的物理量依然存在其 不確定度 。 測量儀器的 量程 （instrument range）又稱 儀表範圍 ，是指度量工具（儀表、儀器）所能測量物理量的範圍，其值為最大測量值（上限）和最小值測量值（上限）之差的絕對值。 種類 [ 編輯] 根據用途分類： [ 編輯]
干涉儀 （interferometer）廣泛應用於科學研究和工業生產中對微小位移、折射率以及表面平整度的測量。 在干涉儀中，從單個光源發出的光會分為兩束，經不同 光路 （英語：Optical path） ，最終交匯產生干涉。 所產生的干涉圖紋能夠反映兩束光的 光程 差。 在科學分析中，干涉儀用於測量長度以及光學元件的形狀，精度能到奈米級。 它們是現有精度最高的長度測量儀器。 在 傅立葉變換光譜學 中，干涉儀用於分析包含與物質交互作用發生吸收或散射資訊的光。 天文學干涉儀 （英語：astronomical interferometer） 由兩個及以上的望遠鏡組成，它們的信號匯合在一起，結果的解析度與直徑為元件間最大間距的望遠鏡的相同。 基本原理 [ 編輯] 圖二：邁克生干涉儀中圖紋的形成。
