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  1. 陽台採光罩 - 購物搜尋結果

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  2. zh.wikipedia.org › zh › 台灣光罩台灣光罩 - 维基百科，自由的百科全书

    台灣光罩 （英語： Taiwan mask corporation ）是 台灣 的一家 光罩 製造公司，成立於1988年，總公司座落於 新竹科學園區 。 1980年代後期，台灣有許多的半導體設計公司成立，因此衍生對半導體光罩製造的龐大需求，工研院則由美國國際材料研究公司（IMR）進行技術移轉活動以建立光罩技術設施，同時工研院亦積極發展自有技術，並且將技術移轉給私有部門。 於1988年從 工研院 衍生的第三個民間企業，負責提供半導體光罩製作。 [1] 2017年起陸續併購三間公司，分別為晶圓產能代理公司美祿科技 [2] 、觸控面板IC公司威達高科、Flash封裝公司群豐科技。 [3]

  3. zh.wikipedia.org › zh-tw › 光罩護膜光罩護膜 - 維基百科，自由的百科全書

    光罩護膜（Pellicle），即表示是光罩上的膜或薄膜的意思，結構為一薄膜展開在框架上，以免於光罩受到微塵或揮發性氣體的汙染。 自1970年代後期即開始發展，早期的保護膜大都使用 硝化纖維素 ，其波長在350～450nm， 折射率 約為1.5，厚度則2.85 mm。

  4. zh.wikipedia.org › zh-hant › 光罩光罩 - 維基百科，自由的百科全書

    光罩 （英語： Reticle, Mask ）：在製作 集成電路 的過程中，利用 光蝕刻 技術，在 半導體 上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理 [1] 。 比如沖洗 照片 時，利用底片將影像複製至相片上。 結構 [ 編輯] 實體結構：佈滿積體電路圖像的 鉻 金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。 倍縮光罩（Reticle）：在投影式光刻機中，掩模作為一個光學元件位於會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它並不和晶圓有直接接觸。 掩模上的圖形縮小4~10倍（現代光刻機一般都是縮小4倍）後透射在晶圓表面。 為了區別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模（reticle）。

  5. zh.wikipedia.org › zh-tw › 光罩檢測光罩檢測 - 維基百科，自由的百科全書

    維基百科，自由的百科全書. 半導體光罩. 在 微技術 領域中， 光罩檢測 （英語： mask inspection ）是檢查 光罩 製作正確性的操作技術 [1] 。 用於定位光罩缺陷的是高級自動化系統，如 掃描電子顯微鏡 等 [2] 。 「光罩檢測」一詞也可能非正式地指稱真正寫入光罩前的 光罩資料檢測 （ mask data inspection ） [3] 。 參考文獻 [ 編輯] ^ "VLSI technology: fundamentals and applications", by Yasuo Tarui, 1986, ISBN 3-540-12558-2, Chapter 4: "Mask Inspection Technology"

  6. zh.wikipedia.org › zh-tw › 悅誠廣場悅誠廣場 - 維基百科，自由的百科全書

    民族一路側的門廳中庭，利用長達100米的拱狀透明採光罩引入自然光線，取名為晴天園地；手扶梯旁設有劇場式階梯休憩席位及15米高的巨型書牆，商場走道於多處手扶梯、兒童遊戲場旁設置小型書牆休憩區及兒童書籍休憩區，呈現濃厚的書香氣息，全棟商場計

  7. zh.wikipedia.org › zh-tw › 陽台露臺 - 維基百科，自由的百科全書

    露台 ，又稱 陽台 、 陰台 ，是一種從 大廈 牆壁 「外壁」突出，由 圓柱 或托架支撐的 平台 ，其邊沿則建 欄杆 ，以防止物件和人落出平台範圍，是為 建築物 的延伸 [1] 。 儘管露台和陽台泛指同一種建築物，但其實兩者有其些微分別，無頂也無遮蓋物之平台稱露台，有遮蓋物者之平台稱陽台 [2] 。 歷史 [ 編輯] 中國 [ 編輯] 中國最先出現露臺的時代是 宋朝 時期，多由 石頭 或 枋木 建成，用於演出 戲曲 ，故此，此種露臺規模非常大，高達丈餘，與 舞臺 同義，故亦衍生有「露臺子弟」一詞，形容非官方的 演員 。 宋朝作家 孟元老 撰的《 東京夢華錄 》，在「元宵」條中寫：「樓下用枋木壘成露臺一所，采結欄檻，……。 教坊鈞容直、露臺子弟，更互 雜劇 。

  8. zh.wikipedia.org › zh-cn › 光罩護膜光罩护膜 - 维基百科，自由的百科全书簡

    2020年9月30日 · 光罩护膜（Pellicle），即表示是光罩上的膜或薄膜的意思，结构为一薄膜展开在框架上，以免于光罩受到微尘或挥发性气体的污染。 自1970年代后期即开始发展，早期的保护膜大都使用 硝化纤维素 ，其波长在350～450nm， 折射率 约为1.5，厚度则2.85 mm。

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