euv光刻機 相關
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2024年8月7日 · 沖繩科學技術大學（OIST）的新竹勉教授（Professor Tsumoru Shintake）提出了一種全新且大大簡化的極紫外光（EUV）光刻工具，成本低於由 ASML 開發和製造的同類設備。. 如果該設備進入量產，有可能重塑晶片製造設備行業，甚至整個半導體行業。.
2024年6月4日 · 總部位於荷蘭的艾司摩爾公司 （ASML）與比利時晶片研究公司 Imec 合作，在荷蘭費爾德霍芬開設了一個 High NA EUV 光刻機的測試實驗室。. 這個歷時多年打造的實驗室，耗資 3.5 億歐元，將讓晶片製造商龍頭及相關設備和材料供應商，有機會提早接觸到這款 ...
2022年6月17日 · 路透社報導，米玉傑在矽谷的台積電技術論壇上說，台積電將在 2024 年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）光刻機，來因應客戶推動創新的需求。 英特爾目標：要在 2025 年以高數值孔徑 EUV「進行生產」
2023年12月25日 · 英特爾在 2022 年訂購 ASML 首台 High NV EUV 試用機，而包括台積電（2330-TW）、三星電子、SK 海力士和美光（MU-US），也都陸續訂購這款曝光機。ASML 曾在 11 月 30 日表示，預定今年年底前交付首批機台。 立即下載《TechOrange 2024 趨勢觀察
2024年9月18日 · 近日，德國科技媒體 Telepolis 發現，上海微電子裝備集團提交了新專利，內容涉及極紫外光微影製程，即 EUV 曝光機 設備相關技術。 EUV 曝光技術目前被廣泛應用於 7nm 及以下製程晶片，但全世界擁有相關設備製造能力的廠商，目前僅有荷蘭 艾司摩爾（ASML） 獨獨一家，其市佔率也高達 100%。 根據報導，上海微電子此次披露的一系列 EUV 技術專利，主要涉及光源產生與曝光設備，包含極紫外光產生器、雷射產生器、收集鏡、電極板等，皆是 EUV 機台的重要關鍵零件。 EUV 技術複雜，中國自製能力有待證明. 在面對美國、日本、荷蘭等多國同盟，陸續封鎖中國取得先進 晶片 製造技術的情況下，外媒 Telepolis 認為，中國於 EUV 技術方面的進步仍勢不可擋，同時正於晶片領域迎頭趕上。
2021年5月31日 · 晶片製造中，一台 EUV 光刻機的單日耗電量就可以達到驚人的 3 萬度，而一條生產線中，除了先進製程需要用到的 EUV 光刻機，大概還需要上百台成熟製程的 DUV 光刻機，DUV 的耗電量雖然沒有 EUV 那麼誇張，但也不是小數字。
2024年9月4日 · 聯手日本蓋晶片研發中心共享 EUV 製造技術. 根據知情人士透露，日本官方將和美國晶片製造商 Intel 合作，在日本當地建立先進半導體製造與技術研發中心，同時也會為研發中心導入 極紫外光微影技術（EUV） 設備，並且對外開放共享使用，提升日本在 ...
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