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2024年8月7日 · 沖繩科學技術大學（OIST）的新竹勉教授（Professor Tsumoru Shintake）提出了一種全新且大大簡化的極紫外光（EUV）光刻工具，成本低於由 ASML 開發和製造的同類設備。. 如果該設備進入量產，有可能重塑晶片製造設備行業，甚至整個半導體行業。.
2023年12月25日 · 荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML-US）上周四（21 日）表示，第一套高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影設備，已交貨給英特爾（INTC-US）。. 這款最先進 EUV 曝光機每台價格超過 3 億美元，將幫助英特爾製造更小、更快的半導體。. ASML 在社群媒體 X ...
2024年6月4日 · 總部位於荷蘭的艾司摩爾公司 （ASML）與比利時晶片研究公司 Imec 合作，在荷蘭費爾德霍芬開設了一個 High NA EUV 光刻機的測試實驗室。 這個歷時多年打造的實驗室，耗資 3.5 億歐元，將讓晶片製造商龍頭及相關設備和材料供應商，有機會提早接觸到這款獨一無二 ...
2021年4月19日 · 台積電在此次年報中透露，極紫外光光阻製程、光罩保護膜及相關的光罩基板，都展現顯著進步，極紫外光技術已全面量產。 此外，光罩技術在先進微影技術中極為關鍵。
2022年2月21日 · 全球極紫外光 (EUV) 光罩盒產品大廠 英特格 (Entegris) 也在去年 宣布投資台灣 140 億台幣，建立 具備最先進技術之廠區。 在全球力拼半導體自主的當下，台灣亦積極展開相關佈局。
2024年9月4日 · 日本官方將和美國晶片商 Intel 合作，在日本建立先進半導體製造技術研發中心，同時也會導入極紫外光微影技術 EUV 設備共享使用，提升日本在晶片製造設備與材料行業的知識及能力。
2022年6月17日 · 路透社報導，米玉傑在矽谷的台積電技術論壇上說，台積電將在 2024 年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）光刻機，來因應客戶推動創新的需求。 英特爾目標：要在 2025 年以高數值孔徑 EUV「進行生產」
