搜尋結果
2024年8月7日 · 沖繩科學技術大學（OIST）的新竹勉教授（Professor Tsumoru Shintake）提出了一種全新且大大簡化的極紫外光（EUV）光刻工具，成本低於由 ASML 開發和製造的同類設備。. 如果該設備進入量產，有可能重塑晶片製造設備行業，甚至整個半導體行業。.
2024年9月4日 · 日本官方將和美國晶片商 Intel 合作，在日本建立先進半導體製造技術研發中心，同時也會導入極紫外光微影技術 EUV 設備共享使用，提升日本在晶片製造設備與材料行業的知識及能力。
2021年4月19日 · 針對 3 奈米技術開發，極紫外光（EUV）微影技術展現極佳的光學能力，與符合預期的晶片良率。 台積電：今年 2 奈米將著重改善 EUV 技術品質 台積電研發單位正致力於極紫外光技術，以減少曝光機光罩缺陷及製程堆疊誤差，並降低整體成本。
2024年6月4日 · 總部位於荷蘭的艾司摩爾公司 （ASML）與比利時晶片研究公司 Imec 合作，在荷蘭費爾德霍芬開設了一個 High NA EUV 光刻機的測試實驗室。. 這個歷時多年打造的實驗室，耗資 3.5 億歐元，將讓晶片製造商龍頭及相關設備和材料供應商，有機會提早接觸到這款 ...
- 缺水、缺電、疫情影響台積電的晶片製造
- 的年用電量，佔台灣總用電量的 4.8%
- 台積電每日用水量約 20 萬噸，在過去 10 年中成長近 5 倍
- 先進製程悖論：晶片追求性能以提升效率，生產的資源消耗卻在增加
最近讓台灣晶片產業人士揪心的事不少，缺水、缺電的問題還沒解決，新冠疫情帶來的衝擊又使得十餘名晶片工程師遭到隔離。 據報導，近日台積電一名工程師確診，其密切接觸者超過十人。雖台積電表示該員工已於當日居家進行為期十四天的隔離，但除了台積電外亦有晶圓代工廠世界先進、工業電腦大廠研華、記憶體廠商宇瞻、南亞科等硬體廠商員工確診。 台灣疫情的整體形勢仍然嚴峻。據央視報導，繼 5 月 15 日突然升至 180 例本土確診後，目前已經連續 10 天單日新增超過百例。5 月 25 日共新增確診 590 例，包括當日新增的 334 例和「校正回歸」的本土個案 256 例，10 天內累計新增確診 3584 例。 疫情衝擊下，台積電於 5 月 19 日要求部分中高風險地區員工居家辦公，確保公司正常運轉，產能不受衝擊...
晶片製造業是一個巨大的資源消耗型行業，晶片製造工藝繁多，從矽片製造、晶片設計、晶圓製造再到封裝測試，前前後後所需進行的工藝程序不下上千步，其中，不少製造工序對用電量都有巨大的需求。 晶片製造中，一台 EUV 光刻機的單日耗電量就可以達到驚人的 3 萬度，而一條生產線中，除了先進製程需要用到的 EUV 光刻機，大概還需要上百台成熟製程的 DUV 光刻機，DUV 的耗電量雖然沒有 EUV 那麼誇張，但也不是小數字。僅在新竹科學園區中，就有著十幾座晶圓代工廠，其耗電量的驚人程度可想而知，而光刻只是晶圓製造眾多程序中的一環。 在晶圓製造中，除了所需的工藝程序和大型設備耗電量巨大，其生產製造環境對溫度、濕度、氣壓、無塵等條件同樣要求苛刻，同樣需要投入大量的電力來維持這些環境控制設備。 如，晶片製造區間...
晶圓工廠不僅是用電大戶，其工業用水的需求量只多不少。先進製程對晶片精度的要求非常高，因此晶圓工廠的不少工作區為無塵區間，而一些晶圓生產環節需要用大量的超純水沖洗來保證產品的良品率。作為晶片晶圓代工廠龍頭的台積電，其在台灣各工廠的每天用水量達到了近 20 萬噸，且用水量在過去十年中成長了近 5 倍。 如今，台灣水情吃緊，有媒體稱這是 59 年以來台灣最嚴重的一次乾旱，島內不少水庫乾涸，蓄水量不足平日的十分之一。居民的日常生活用水也受到限制，苗栗、台中及彰化部分地方已啟動一週「供五停二」分區限水政策，農業用水方面，甚至停止了 7.4 萬公頃農田灌溉（近台灣灌溉土地的 1/5）。 面對著水荒難題，台積電已經透過使用加油車從其它地區水庫運水的方式來解決，但加油車運水不是長久之計，據瞭解，一輛加油車僅...
除了近期台積電遭遇的系列缺水缺電事故，在全球範圍內因自然因素導致的晶片工廠停工事件並不鮮見。今年 2 月，美國德克薩斯州爆發的罕見暴風雪導致奧斯汀的數家半導體工廠停產，其中包括三星、恩智浦。 暴風雪導致德克薩斯州的電網幾近癱瘓，居民和工業用電困難，在斷電期間，三星位於該州的工廠停產了一個多月時間。據三星發言人表示，在此期間，三星有約 7.1 萬個晶圓受到生產中斷的影響，預計晶圓損失在 2.68 億美元至 3.57 億美元之間。 要使晶圓廠恢復正常生產也不是一件容易的事情，晶圓生產的週期較長，工序複雜、繁多，當某一工序因斷電不當停止可能出現前功盡棄的情況，若要將產能恢復至較高水平則需一週或更久。 耐人尋味的是，在全球晶片緊缺之際，三星在被問及是否考慮在奧斯汀繼續擴大晶圓產能時，公司官員表示會綜...
2024年8月6日 · 根據報導，英特爾（Intel）首席執行官 Pat Gelsinger 於8月1日的財報會議上透露，公司正在接收第二台來自 ASML 的「High NA」EUV 曝光機。 這些曝光機價值約3.5億歐元（約3.83億美元），將在未來幾個月內安裝完成。
2020年9月1日 · 晶圓代工廠台積電擴大半導體學程架構，導入極紫外光（EUV）微影技術等相關課程，並安排設備工程組織主管親自教學，協助學子無落差接軌產業發展趨勢。
