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  1. 2024年5月8日 · 韓媒傳出,英特爾(Intel Corp.)已包下荷商艾司摩爾(ASML Holding N.V.)新型High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)微影設備直到明(2025)年上半為止的多數供應量

  2. 2020年1月30日 · 為了簡化晶圓製程和強化競爭力外界預估三星電子今年將首度使用極紫外光 (EUV)微影設備生產次世代DRAM。. 韓媒BusinessKorea報導,業界觀察家表示 ...

  3. 2019年10月1日 · 微影相當重要的一個步驟目前普遍使用的是浸潤式(immersion)微影工藝而EUV則是7奈米以下先進製程的主流根據ASML說法該技術可以顯著地減少 ...

  4. 2024年1月25日 · 值得注意的是ASML 2023年第四季的淨接單金額高達92億歐元較2023年第三季的約26億歐元激增近2.5倍其中EUV微影系統訂單高達52億歐元

  5. 2023年12月6日 · 日本新聞網站Newswitch 5日引述日刊工業新聞的報導指出Rapidus已決定將在2024年年底在興建中的北海道千歲市2nm工廠內導入EUV微影設備且Rapidus ...

  6. 2021年10月21日 · 微影設備大廠艾司摩爾ASML20日召開法人說明會預期邏輯製程及DRAM製程將加速導入極紫外光EUV微影技術2022年EUV曝光機年產能將提升至55台 ...

  7. 2016年3月3日 · 英特爾能否兌現承諾的關鍵在於新一代極紫外光EUV微影技術而EUV機台目前還沒有預估必須等到7奈米才會問世

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