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2024年5月8日 · 韓媒傳出,英特爾(Intel Corp.)已包下荷商艾司摩爾(ASML Holding N.V.)新型High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)微影設備直到明(2025)年上半為止的多數供應量。
2020年1月30日 · 為了簡化晶圓製程和強化競爭力,外界預估三星電子今年將首度使用極紫外光 (EUV)微影設備,生產次世代DRAM。. 韓媒BusinessKorea報導,業界觀察家表示 ...
2019年10月1日 · 微影相當重要的一個步驟,目前普遍使用的是浸潤式(immersion)微影工藝,而EUV則是7奈米以下先進製程的主流。 根據ASML說法,該技術可以顯著地減少 ...
2024年1月25日 · 值得注意的是,ASML 2023年第四季的淨接單金額高達92億歐元,較2023年第三季的約26億歐元激增近2.5倍,其中,EUV微影系統訂單高達52億歐元。
2023年12月6日 · 日本新聞網站Newswitch 5日引述日刊工業新聞的報導指出,Rapidus已決定將在2024年年底、在興建中的北海道千歲市2nm工廠內導入EUV微影設備,且Rapidus ...
2021年10月21日 · 微影設備大廠艾司摩爾(ASML)20日召開法人說明會,預期邏輯製程及DRAM製程將加速導入極紫外光(EUV)微影技術,2022年EUV曝光機年產能將提升至55台 ...
2016年3月3日 · 英特爾能否兌現承諾的關鍵在於新一代極紫外光(EUV)微影技術,而EUV機台目前還沒有,預估必須等到7奈米才會問世。