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2020年8月26日 · 法人進一步表示,台積電先進製程中的極紫外光(EUV)機台相當耗電,充足且穩定供電是台積電營運的必要條件,也是未來半導體先進製程發展的關鍵要素。
2023年12月25日 · 2023-12-25. 分享本文. 荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML-US)上周四(21 日)表示,第一套高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影設備,已交貨給英特爾(INTC-US)。 這款最先進 EUV 曝光機每台價格超過 3 億美元,將幫助英特爾製造更小、更快的半導體 。 ASML 在社群媒體 X 平台上張貼的圖片顯示,機器的某一部分裝在一個系上紅色絲帶的保護箱裡,正從荷蘭 Veldhoven 總部出發。
2022年6月17日 · 路透社報導,米玉傑在矽谷的台積電技術論壇上說,台積電將在 2024 年引進高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)光刻機,來因應客戶推動創新的需求。 英特爾目標:要在 2025 年以高數值孔徑 EUV「進行生產」
2020年12月22日 · 艾司摩爾也是台積電認證的優良供應商,除了生產 EUV 機台支援台積電 5 奈米量產,旗下也擁有對 8 吋晶圓廠量產相當關鍵的設備深紫外光微影系統(DUV)。 根據《 經濟日報 》報導,隨著艾司摩爾在台擴編,增加逾一成人力達到 3,300 人以上,未來台積電等台廠預計都能獲得最快、最出色的工程人員支援,搶佔先機。 另據《 Business Korea 》報導,三星正計畫加強與艾司摩爾的技術合作,討論有關 EUV 設備供應和開發的相關合作以及建立技術聯盟,確保擴大下一代 EUV 微影設備「High-NA EUV」的供應,並希望能搶在台積電之前。
2021年4月19日 · 微影技術方面,台積電去年研發重點 3 奈米、2 奈米技術開發,及下世代奈米技術開發的先期準備。針對 3 奈米技術開發,極紫外光(EUV)微影技術展現極佳的光學能力,與符合預期的晶片良率。 台積電:今年 2 奈米將著重改善 EUV 技術品質
2017年10月23日 · 根據自由時報引述韓國媒體的報導,三星為了與競爭對手對抗,可能將「買斷」半導體生產設備,搶光 7 奈米晶圓製程的最重生產設備 EUV 機台,等於競爭對手台積電、英特爾、格羅方德等公司都買不到設備。 買斷設備,讓對手失去產能
2021年4月22日 · ASML 在第一季出貨 9 台極紫外光 (EUV) 機台,但僅先確認 7 台的營收,總計 11 億歐元。 公司預計,今年 EUV 機器的總銷量將比 2020 年增長 30%。 TO 編按:ASML 是目前全球光刻機系統的主要供應商,該大型機器能協助繪製細小的運算晶片電路圖,每台機器成本 ...